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阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年
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英特尔携手ASML完成首台二代High NA EUV光刻机验收测试
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台积电买走EUV光刻机10年来一半产量
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无需EUV也能到2nm工艺 国产专利4年前已有准备
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重整光刻技术 美政府入股xLight
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ASML否认曾提议为美国政府监控中国客户
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ASML称High NA EUV更省时间与成本
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ASML称暂未受安世引半导体引发的行业震荡波及
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尼康五年来首度陷入营业亏损 下调全年光刻机销量
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佳能半导体设备销量受挫 光刻机直砍14台
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从阿斯麦到安世半导体 荷兰在做什么？
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消息称台积电放弃采购4亿美元ASML顶级光刻机
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ASML发货第一款革命性3D封装光刻机
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台积电首度公开EUV光刻机生产芯片全程
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三星电子计划再引进两台ASML High-NA EUV光刻机
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ASML：中国稀土管控决定光刻机交货速度
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ASML出货首款先进封装光刻机TWINSCAN XT:260
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俄罗斯光刻机路线图曝光
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imec宣布取得两项High NA EUV光刻突破性成就
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六大半导体巨头EUV光刻机数量曝光
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Intel加码订购ASML High-NA EUV光刻机
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消息称SK海力士加速引进ASML EUV光刻机
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曝中芯国际测试首款国产DUV光刻机
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英特尔称14A制程将由High NA EUV量产
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ASML官宣13亿欧元加码AI战略
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全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动
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中国光刻机仍停留在65nm 落后ASML约20年
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ASML向中国出口光刻机利润曝光
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全国首台国产商业电子束光刻机已进入应用测试
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