3 月 19 日消息，比利時校際微電子研究中心 imec 當(dāng)?shù)貢r間 18 日宣布，其長期合作伙伴 ASML 已向其交付了一臺高數(shù)值孔徑 (High NA) 極紫外光 (EUV) 光刻系統(tǒng)，這款 EXE:5200 將在 imec 總部比利時魯汶為亞 2nm 中試線項目 NanoIC 提供關(guān)鍵支持。
▲ 圖源：imec
imec 此前已在 ASML 總部所在地荷蘭費爾德霍芬的 ASML-imec 聯(lián)合 High NA EUV 光刻實驗室與 ASML 一道攜手其它業(yè)界伙伴共同開拓最先進(jìn)的半導(dǎo)體圖案化技術(shù)，而新光刻機的到來將為 imec 解鎖更大的研發(fā)自由與量產(chǎn)級能力。
imec 預(yù)計此次交付的 EXE:5200 High NA EUV 光刻系統(tǒng)將于 2026 年第 4 季度完成全面認(rèn)證。
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