《電子技術(shù)應(yīng)用》
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《集成電路應(yīng)用》雜志征稿啟事

關(guān)鍵詞: 集成電路應(yīng)用 征稿

集成電路應(yīng)用》雜志創(chuàng)刊于1984年,由中國電子信息產(chǎn)業(yè)集團(tuán)有限公司主管、上海貝嶺股份有限公司主辦的國家級(jí)學(xué)術(shù)期刊,上海市集成電路行業(yè)協(xié)會(huì)(SICA)會(huì)刊。

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長期以來,本刊立足我國集成電路產(chǎn)業(yè),面向全球科技前沿,以“傳播前沿技術(shù)、促進(jìn)學(xué)術(shù)交流、推動(dòng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新、服務(wù)國家戰(zhàn)略”為核心理念,致力于打造一個(gè)高水平、高質(zhì)量的學(xué)術(shù)交流平臺(tái)。

本刊內(nèi)容聚焦集成電路設(shè)計(jì)、制造、封裝、測(cè)試、EDA工具、IP核以及創(chuàng)新應(yīng)用等全產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié),旨在及時(shí)、準(zhǔn)確地反映我國在集成電路領(lǐng)域的最新科研成就、技術(shù)創(chuàng)新與工程實(shí)踐。

通過促進(jìn)產(chǎn)、學(xué)、研、用深度融合,本刊力求加速推動(dòng)科技成果轉(zhuǎn)化與應(yīng)用,為提升我國集成電路產(chǎn)業(yè)的自主創(chuàng)新能力、突破關(guān)鍵核心技術(shù)、構(gòu)建安全可靠的產(chǎn)業(yè)鏈和供應(yīng)鏈貢獻(xiàn)力量。

1、欄目設(shè)置

本刊刊登的論文應(yīng)具有創(chuàng)新性、科學(xué)性及實(shí)用性。論文應(yīng)反映當(dāng)前國內(nèi)外集成電路技術(shù)及其應(yīng)用方面的先進(jìn)技術(shù)成果或進(jìn)展,有獨(dú)創(chuàng)內(nèi)容。未在國內(nèi)外期刊上公開發(fā)表過,不存在版權(quán)爭(zhēng)議及泄密問題。論文撰寫需符合國家科技論文寫作要求。

主要欄目設(shè)置及收錄范圍如下:

□綜述與評(píng)論:集成電路技術(shù)及相關(guān)領(lǐng)域綜述或評(píng)述性文章。

□數(shù)字與模擬:本欄目聚焦數(shù)字與模擬集成電路設(shè)計(jì)的前沿理論、關(guān)鍵技術(shù)與工程實(shí)現(xiàn)。包括但不限于:CPU、GPU、AI加速器、NPU、RISC-V等專用/通用處理器設(shè)計(jì),異構(gòu)計(jì)算芯片設(shè)計(jì),自動(dòng)布局布線,可制造性設(shè)計(jì),信號(hào)完整性,電源完整性分析與優(yōu)化,以及各類模擬集成電路設(shè)計(jì)實(shí)例。

□工藝與制造:本欄目聚焦從晶圓材料、前道制程到后道整合的完整制造鏈,深入探討包括但不限于:先進(jìn)光刻、刻蝕、薄膜沉積、離子注入、化學(xué)機(jī)械拋光、計(jì)量檢測(cè)等核心工藝模塊的突破與優(yōu)化;關(guān)注FD-SOI、FinFET、GAA、CHIPLET等前沿器件結(jié)構(gòu)的大規(guī)模制造技術(shù),追蹤集成電路制造與MEMS、傳感器、功率器件等特色工藝的融合發(fā)展。

□EDA與IP:本欄目追蹤全球EDA技術(shù)的最新進(jìn)展,包括但不限于:人工智能驅(qū)動(dòng)的設(shè)計(jì)(AI for EDA)、云原生EDA、異構(gòu)集成與先進(jìn)封裝設(shè)計(jì)、數(shù)字孿生、處理器IP(CPU/GPU/NPU)、高速接口IP、模擬及混合信號(hào)IP等。

□創(chuàng)新應(yīng)用:本欄目聚焦于以芯片為核心完成的終端應(yīng)用方案、系統(tǒng)設(shè)計(jì)與工程實(shí)現(xiàn),包括但不限于CPU、MCU、MPU、SoC、ASIC、FPGA、模擬芯片或?qū)S脗鞲衅鞯鹊膽?yīng)用方案。

2、稿件撰寫規(guī)范化要求

文章格式按先后順序依次為:中文題名、作者姓名(中文)、作者單位(中文)、中文摘要、中文關(guān)鍵詞、中圖分類號(hào)、文獻(xiàn)標(biāo)志碼、英文題名、作者姓名(拼音)、單位(英文)、英文摘要、英文關(guān)鍵詞、正文、參考文獻(xiàn)、作者簡(jiǎn)介。

文章題目要求簡(jiǎn)單明了,不超過25個(gè)字;作者署名及單位按先后排序;中英文作者、單位名稱、排序、郵編須一致。

中文摘要150~250字,重點(diǎn)寫清研究的目的、方法、結(jié)果、結(jié)論。英文摘要須與中文摘要內(nèi)容一致。關(guān)鍵詞數(shù)量以3~8個(gè)為宜,關(guān)鍵詞須是常用的檢索詞。

來稿如受到基金資助,請(qǐng)?jiān)谑醉撟笙陆亲⒚鳎ɑ痤悇e和編號(hào)),在通知稿件錄用時(shí)需提供基金證明材料。

正文部分應(yīng)層次清晰、結(jié)構(gòu)合理,重點(diǎn)突出核心技術(shù)問題。文章篇幅不少于6000字符,圖、表、公式豐富,所有圖請(qǐng)采用黑線條,無底色,以保證清晰,表格采用三線表。

參考文獻(xiàn)須按《GB/T 7714-2015》中順序編碼制要求標(biāo)注。所有參考文獻(xiàn)須著錄項(xiàng)目齊全,并全部在正文內(nèi)相應(yīng)引用位置用上角標(biāo)標(biāo)出。

文后請(qǐng)給出前三位作者的作者簡(jiǎn)介,內(nèi)容包括:姓名、出生年份、性別、專業(yè)技術(shù)職稱、學(xué)歷/學(xué)位(在讀研究生寫“碩士研究生”或“博士研究生”)。此外,需給出作者詳細(xì)工作單位、通信地址、郵編、聯(lián)系電話及E-mail 地址。

3、審稿流程

本刊稿件初審周期7天 ,初審?fù)ㄟ^稿件轉(zhuǎn)為專家外審,外審周期25天,外審結(jié)束后本刊編輯會(huì)主動(dòng)與您郵件或電話聯(lián)系進(jìn)入稿件修改階段,作者修改完畢后進(jìn)入復(fù)審階段,復(fù)審周期為7天。復(fù)審?fù)ㄟ^后,本刊編輯會(huì)發(fā)送《用稿通知》,作者提交《版權(quán)協(xié)議》和《保密證明》后,編輯部進(jìn)行復(fù)審并出具《錄用通知》。

4、投稿方式

本刊電子郵箱(ICAPP@belling.com.cn)接收投稿,稿件文件名格式:欄目名稱+文章題目。投稿后,請(qǐng)按照時(shí)間節(jié)點(diǎn)關(guān)注編輯部的反饋意見,按照要求適時(shí)提供稿費(fèi)接收賬號(hào)、樣刊寄送地址等信息。


《集成電路應(yīng)用》編輯部

2025年12月30日


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