2 月 27 日消息，據(jù)路透社今日報道，阿斯麥公司（ASML）一位高管透露，該公司新一代芯片制造設備已具備廠商大規(guī)模量產(chǎn)使用的條件，這對芯片行業(yè)而言是重要的一步。

這家荷蘭企業(yè)生產(chǎn)全球唯一商用的極紫外光刻機（EUV），該設備是芯片制造商的核心生產(chǎn)裝備。阿斯麥方面的數(shù)據(jù)顯示，這款新設備能省去芯片制造流程中數(shù)個高成本、高復雜度的工序，助力臺積電、英特爾等芯片企業(yè)制造性能更強勁、能效更優(yōu)異的芯片。

阿斯麥耗時數(shù)年研發(fā)這款高成本的新一代設備，與此同時，芯片制造商們也一直在評估，何時啟動該設備的量產(chǎn)才具備經(jīng)濟可行性。

當前一代極紫外光刻機在制造復雜人工智能芯片方面的能力已接近技術極限，而這款名為 High-NA EUV（高數(shù)值孔徑極紫外光刻機）的新一代設備，成為人工智能行業(yè)的關鍵所在 —— 它將助力優(yōu)化 OpenAI 的 ChatGPT 等聊天機器人，同時幫助芯片企業(yè)如期推進人工智能芯片研發(fā)路線圖，以滿足市場激增的需求。這款新設備的單臺成本約為 4 億美元（注：現(xiàn)匯率約合 27.41 億元人民幣），是初代極紫外光刻機的兩倍。

阿斯麥首席技術官馬爾科?皮特斯稱，阿斯麥的相關數(shù)據(jù)顯示，目前高數(shù)值孔徑極紫外光刻機的停機時間已大幅減少，累計加工完成 50 萬片餐盤大小的硅晶圓，且能夠刻制出芯片電路所需的高精度圖案。這三項數(shù)據(jù)共同表明，該設備已具備交付廠商量產(chǎn)使用的條件。

盡管設備已實現(xiàn)技術就緒，但芯片企業(yè)仍需耗時 2 至 3 年開展充分的測試與研發(fā)，才能將其整合至量產(chǎn)流程中。皮特斯認為從設備的試產(chǎn)驗證周期來看，目前已到關鍵節(jié)點。皮特斯表示：“芯片制造商已掌握相關技術，具備完成該設備量產(chǎn)認證的能力?！?/p>

他還透露，目前該款設備的稼動率已達到約 80%，公司計劃在今年年底前將這一指標提升至 90%。該設備完成的 50 萬片晶圓加工工作，讓公司解決了設備運行中的諸多技術難題。