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消息称ASML新一代EUV光刻机已具备量产条件

单台成本约4亿美元
2026-02-27
來(lái)源:IT之家

2 月 27 日消息,據(jù)路透社今日?qǐng)?bào)道,阿斯麥公司(ASML)一位高管透露,該公司新一代芯片制造設(shè)備已具備廠商大規(guī)模量產(chǎn)使用的條件,這對(duì)芯片行業(yè)而言是重要的一步。

這家荷蘭企業(yè)生產(chǎn)全球唯一商用的極紫外光刻機(jī)EUV),該設(shè)備是芯片制造商的核心生產(chǎn)裝備。阿斯麥方面的數(shù)據(jù)顯示,這款新設(shè)備能省去芯片制造流程中數(shù)個(gè)高成本、高復(fù)雜度的工序,助力臺(tái)積電、英特爾等芯片企業(yè)制造性能更強(qiáng)勁、能效更優(yōu)異的芯片。

阿斯麥耗時(shí)數(shù)年研發(fā)這款高成本的新一代設(shè)備,與此同時(shí),芯片制造商們也一直在評(píng)估,何時(shí)啟動(dòng)該設(shè)備的量產(chǎn)才具備經(jīng)濟(jì)可行性。

當(dāng)前一代極紫外光刻機(jī)在制造復(fù)雜人工智能芯片方面的能力已接近技術(shù)極限,而這款名為 High-NA EUV(高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī))的新一代設(shè)備,成為人工智能行業(yè)的關(guān)鍵所在 —— 它將助力優(yōu)化 OpenAI 的 ChatGPT 等聊天機(jī)器人,同時(shí)幫助芯片企業(yè)如期推進(jìn)人工智能芯片研發(fā)路線圖,以滿足市場(chǎng)激增的需求。這款新設(shè)備的單臺(tái)成本約為 4 億美元(注:現(xiàn)匯率約合 27.41 億元人民幣),是初代極紫外光刻機(jī)的兩倍。

阿斯麥?zhǔn)紫夹g(shù)官馬爾科?皮特斯稱,阿斯麥的相關(guān)數(shù)據(jù)顯示,目前高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)的停機(jī)時(shí)間已大幅減少,累計(jì)加工完成 50 萬(wàn)片餐盤大小的硅晶圓,且能夠刻制出芯片電路所需的高精度圖案。這三項(xiàng)數(shù)據(jù)共同表明,該設(shè)備已具備交付廠商量產(chǎn)使用的條件。

盡管設(shè)備已實(shí)現(xiàn)技術(shù)就緒,但芯片企業(yè)仍需耗時(shí) 2 至 3 年開展充分的測(cè)試與研發(fā),才能將其整合至量產(chǎn)流程中。皮特斯認(rèn)為從設(shè)備的試產(chǎn)驗(yàn)證周期來(lái)看,目前已到關(guān)鍵節(jié)點(diǎn)。皮特斯表示:“芯片制造商已掌握相關(guān)技術(shù),具備完成該設(shè)備量產(chǎn)認(rèn)證的能力?!?/p>

他還透露,目前該款設(shè)備的稼動(dòng)率已達(dá)到約 80%,公司計(jì)劃在今年年底前將這一指標(biāo)提升至 90%。該設(shè)備完成的 50 萬(wàn)片晶圓加工工作,讓公司解決了設(shè)備運(yùn)行中的諸多技術(shù)難題。

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