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將MEMS傳感器用于各種創(chuàng)新的消費(fèi)類(lèi)產(chǎn)品設(shè)計(jì)

MEMS即微機(jī)電系統(tǒng)，是利用微米級(jí)立體結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)感應(yīng)和執(zhí)行功能的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)。其中，微米級(jí)立體結(jié)構(gòu)是利用被稱(chēng)為“微加工”的特殊工藝實(shí)現(xiàn)的微米大小的立體機(jī)械結(jié)構(gòu)。

發(fā)表于：7/21/2010

先柵極還是后柵極業(yè)界爭(zhēng)論高K技術(shù)

隨著晶體管尺寸的不斷縮小，HKMG(high-k絕緣層+金屬柵極)技術(shù)幾乎已經(jīng)成為45nm以下級(jí)別制程的必備技術(shù).不過(guò)在制作HKMG結(jié)構(gòu)晶體管的工藝方面，業(yè)內(nèi)卻存在兩大各自固執(zhí)己見(jiàn)的不同陣營(yíng)，分別是以IBM為代表的Gate-first（先柵極）工藝流派和以Intel為代表的Gate-last（后柵極）工藝流派，盡管兩大陣營(yíng)均自稱(chēng)只有自己的工藝才是最適合制作HKMG晶體管的技術(shù)，但一般來(lái)說(shuō)使用Gate-first工藝實(shí)現(xiàn)HKMG結(jié)構(gòu)的難點(diǎn)在于如何控制 PMOS管的Vt電壓(門(mén)限電壓);而Gate-last工藝的難點(diǎn)則在于工藝較復(fù)雜，芯片的管芯密度同等條件下要比Gate-first工藝低，需要設(shè) 計(jì)方積極配合修改電路設(shè)計(jì)才可以達(dá)到與Gate-first工藝相同的管芯密度級(jí)別。

發(fā)表于：7/21/2010

Vishay推出業(yè)界首類(lèi)具有75V電壓等級(jí)的固鉭貼片電容器

賓夕法尼亞、MALVERN — 2010 年 7 月 20 日 — 日前，Vishay Intertechnology, Inc.（NYSE 股市代號(hào)：VSH）宣布，推出業(yè)界首類(lèi)具有高達(dá)75V的工業(yè)電壓等級(jí)的固鉭貼片電阻器 --- T97和597D，增強(qiáng)了該公司TANTAMOUNT® 高可靠性電容器的性能，擴(kuò)大其在高壓固鉭貼片電容器領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

發(fā)表于：7/20/2010

SD協(xié)會(huì)為 SDXC和SDHC內(nèi)存卡以及設(shè)備定義新的高速性能選擇

近日，SD 協(xié)會(huì)宣布針對(duì)速度最快的 SDXC 和 SDHC 設(shè)備以及內(nèi)存卡推出兩個(gè)全新的高速性能符號(hào)。第一個(gè)符號(hào)是用來(lái)表示總線(xiàn)界面速度每秒高達(dá) 104 MB、可提高設(shè)備性能的產(chǎn)品。第二個(gè)符號(hào)是用來(lái)表示具備允許實(shí)時(shí)視頻錄制的性能選項(xiàng)之 SD 內(nèi)存卡和產(chǎn)品。

發(fā)表于：7/20/2010

Diodes全新小巧晶體管實(shí)現(xiàn)小型化產(chǎn)品設(shè)計(jì)

Diodes公司推出全新20V NPN及PNP雙極晶體管，它們采用超小型DFN1411-3表面貼裝封裝，能大大提升電源管理電路的功率密度和效率。該器件采用了Diodes第五代矩陣射極雙極工藝設(shè)計(jì) (5 matrix emitter Bipolar process)。

發(fā)表于：7/19/2010

NOR Flash產(chǎn)業(yè)版圖醞釀大挪移　臺(tái)廠(chǎng)大舉擴(kuò)產(chǎn)

2010年存儲(chǔ)器市場(chǎng)最夯產(chǎn)品非NOR Flash莫屬，從年初開(kāi)始供貨吃緊且價(jià)格一路飛漲，盡管各家NOR Flash廠(chǎng)對(duì)于第3季價(jià)格都是持續(xù)看漲，但產(chǎn)業(yè)供需結(jié)構(gòu)卻是暗潮洶涌，其中，旺宏與華邦大舉擴(kuò)充12寸廠(chǎng)產(chǎn)能，飛索(Spansion)脫離破產(chǎn)保護(hù)而獲得重生，加上Microchip旗下超捷(SST)新?tīng)I(yíng)運(yùn)策略出爐，其亞洲獨(dú)家代理商倍微對(duì)于搶回低容量NOR Flash市場(chǎng)龍頭信誓旦旦，都讓2010年NOR Flash產(chǎn)業(yè)版圖呈現(xiàn)即將大幅變動(dòng)的氛圍。

發(fā)表于：7/19/2010

半導(dǎo)體材料市場(chǎng)反彈至創(chuàng)新的記錄

根據(jù)SEMI于SEMICON West上最新的數(shù)據(jù)報(bào)道，由于IC出貨量的持續(xù)增加，導(dǎo)致半導(dǎo)體材料用量己經(jīng)回到近08年水平，但是預(yù)期2011年的增速減緩。

發(fā)表于：7/19/2010

28nm節(jié)點(diǎn)將引發(fā)全球代工攻堅(jiān)戰(zhàn)

按Gartner副總裁Dean Freeman看法，能進(jìn)行先進(jìn)制程設(shè)計(jì)的fabless公司目前正處于極好時(shí)光。因?yàn)镕reeman看到頂級(jí)代工廠(chǎng)正義無(wú)反顧的向40及28nm進(jìn)軍，同時(shí)為爭(zhēng)奪更大的市場(chǎng)份額，而使硅片代工的價(jià)格迅速下降。

發(fā)表于：7/16/2010

使用壓電薄膜傳感器作為加速度計(jì)

加速度計(jì)可以用在儀表中，測(cè)量加速度(速度對(duì)時(shí)間的變化率)和測(cè)量?jī)A斜度(物體的縱軸和與地球表面相切的平面的垂線(xiàn)之間形成的傾角)。傾斜度測(cè)量可以被看成“直流”或穩(wěn)態(tài)測(cè)量。在理論上，加速度可以是穩(wěn)態(tài)的，但在實(shí)際應(yīng)用當(dāng)中，加速度通常是一個(gè)短期的暫時(shí)現(xiàn)象。

發(fā)表于：7/15/2010

Vishay Siliconix 推出三款新型500V N溝道功率MOSFET

賓夕法尼亞、MALVERN — 2010 年 7 月 13日 — 日前，Vishay Intertechnology, Inc.（NYSE 股市代號(hào)：VSH）宣布，推出三款新型500V、12A的N溝道功率MOSFET --- SiHP12N50C-E3、SiHF12N50C-E3和SiHB12N50C-E3，該MOSFET在10V柵極驅(qū)動(dòng)下的最大導(dǎo)通電阻達(dá)到超低的0.555Ω，柵極電荷減小為48nC，采用TO-220、TO-220 FULLPAK和D2PAK(TO-263)封裝。　

發(fā)表于：7/14/2010

DRAM廠(chǎng)制程轉(zhuǎn)換不順　新產(chǎn)能變數(shù)多

近期DRAM市場(chǎng)供需雜音多，由于終端需求前景不明，7月合約價(jià)不見(jiàn)起色，仍持續(xù)往下修正，加上隨著40和50納米制程微縮導(dǎo)致產(chǎn)能增加，進(jìn)而壓抑價(jià)格走勢(shì)，然值得注意的是，目前各家DRAM廠(chǎng)在40和50納米世代轉(zhuǎn)換不順消息頻傳，新產(chǎn)能是否能如期出籠仍存變量，因此，第3季DRAM價(jià)格還有多少修正空間，目前仍處于混沌狀態(tài)。

發(fā)表于：7/14/2010

美光科技推出第三代低延時(shí)內(nèi)存

2010年7月14日，北京訊 –美光科技(Micron Technology, Inc)今天推出了第三代低延時(shí)DRAM (RLDRAM○R 3內(nèi)存)—一種高帶寬內(nèi)存技術(shù)，能更有效的傳輸網(wǎng)絡(luò)信息。視頻內(nèi)容、移動(dòng)應(yīng)用和云計(jì)算的蓬勃發(fā)展，對(duì)網(wǎng)絡(luò)基礎(chǔ)設(shè)施提出了更高效的要求，以便在線(xiàn)傳輸大量數(shù)據(jù)。與前幾代產(chǎn)品相比，美光新的RLDRAM 3內(nèi)存進(jìn)一步提高了存儲(chǔ)密度和速度，同時(shí)最大限度地減少了延遲，降低了功耗，在網(wǎng)絡(luò)應(yīng)用中性能更好。

發(fā)表于：7/14/2010

傳感器：物聯(lián)網(wǎng)成引擎新技術(shù)催生新機(jī)遇

作為政府從戰(zhàn)略層面進(jìn)行推進(jìn)的產(chǎn)業(yè)，物聯(lián)網(wǎng)如何從愿景走向現(xiàn)實(shí)應(yīng)用并得到快速發(fā)展已成為業(yè)界關(guān)注的話(huà)題。正所謂“萬(wàn)丈高樓平地起”，作為構(gòu)成物聯(lián)網(wǎng)的基礎(chǔ)單元，傳感器在物聯(lián)網(wǎng)信息采集層面能否如愿以?xún)斖瓿伤摹笆姑?，成為物?lián)網(wǎng)成敗的關(guān)鍵。并且未來(lái)MEMS、MOEMS(微光機(jī)電系統(tǒng))將成為物聯(lián)網(wǎng)的技術(shù)核心，使無(wú)線(xiàn)傳感網(wǎng)、光網(wǎng)快速加入物聯(lián)網(wǎng)的應(yīng)用系統(tǒng)，為其提供更明確的應(yīng)用方向和更豐富的市場(chǎng)機(jī)會(huì)，物聯(lián)網(wǎng)也將成為傳感器市場(chǎng)的新引擎。

發(fā)表于：7/13/2010

全面解析今年一季全球半導(dǎo)體硅片產(chǎn)能

國(guó)際半導(dǎo)體數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)機(jī)構(gòu)SICAS近期的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)中，表示采用MOS工藝以8英寸等值硅片計(jì)，另一類(lèi)工藝為雙極工藝，通常用在模擬電路中。除了標(biāo)有300mm硅片MOS之外，雙極數(shù)據(jù)以5英寸等值硅片計(jì)，而分立器件以6英寸等值硅片計(jì)?？偟陌雽?dǎo)體SC數(shù)據(jù)，包括雙極數(shù)據(jù)由5英寸轉(zhuǎn)換成8英寸利用轉(zhuǎn)換率0.391及分立器件由6英寸轉(zhuǎn)換成8英寸，利用轉(zhuǎn)換率0.563。

發(fā)表于：7/13/2010

2010中國(guó)電子制造商采購(gòu)行為調(diào)查

中國(guó)電子展兩年前首次在展覽期間推出“中國(guó)市場(chǎng)電子元器件領(lǐng)軍廠(chǎng)商評(píng)選活動(dòng)”，這一評(píng)選活動(dòng)一經(jīng)推出，就受到了業(yè)界的廣泛關(guān)注，參與和反響都很不錯(cuò)。今年將于11月3-5日在上海新國(guó)際博覽中心召開(kāi)的第76屆中國(guó)電子展仍然會(huì)將這一評(píng)選活動(dòng)作為一場(chǎng)重量級(jí)的業(yè)內(nèi)互動(dòng)交流平臺(tái)推廣。

發(fā)表于：7/12/2010