EDA與制造相關(guān)文章 引入EUV光刻機(jī)，SK海力士M16新廠竣工 引入EUV光刻機(jī)，SK海力士M16新廠竣工 發(fā)表于：2/1/2021 哈勃科技持股4.36%，又一家半導(dǎo)體芯片企業(yè)擬A股IPO 近日，陜西證監(jiān)會(huì)披露了國(guó)泰君安證券股份有限公司關(guān)于陜西源杰半導(dǎo)體科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“源杰半導(dǎo)體”）輔導(dǎo)備案申請(qǐng)報(bào)告。 發(fā)表于：2/1/2021 臺(tái)積電稱將加快汽車芯片生產(chǎn)作為首要任務(wù) 與非網(wǎng)1月29日訊 知名半導(dǎo)體制造商、芯片代工廠臺(tái)積電表示，正將應(yīng)對(duì)影響汽車行業(yè)的芯片供應(yīng)挑戰(zhàn)作為首要任務(wù)，并通過其晶圓廠“加速”這些產(chǎn)品的生產(chǎn)。 發(fā)表于：1/31/2021 獲吉利投資！賈躍亭東山再起！ 1月28日，據(jù)路透社報(bào)道，兩名知情人士稱，在賈躍亭創(chuàng)辦的電動(dòng)汽車公司法拉第未來(Faraday Future)通過與一家特殊目的收購(gòu)公司(SPAC)合并以實(shí)現(xiàn)上市的計(jì)劃中，中國(guó)汽車制造商吉利將充當(dāng)錨定投資者(anchor investor)。 發(fā)表于：1/29/2021 EUV光刻機(jī)爭(zhēng)奪戰(zhàn)打響，國(guó)產(chǎn)光刻技術(shù)難題有何解？ 近日，荷蘭的光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）發(fā)布2020年度財(cái)報(bào)，全年凈銷售額達(dá)到140億歐元，毛利率達(dá)到48.6%。ASML同時(shí)宣布實(shí)現(xiàn)第100套極紫外光刻（EUV）系統(tǒng)的出貨，至2020年年底已有2600萬片晶圓采用EUV系統(tǒng)進(jìn)行光刻。 發(fā)表于：1/29/2021 官宣！FF 擬在納斯達(dá)克上市，首款旗艦車型 FF 91 已獲得超過 1.4 萬輛訂單 FF 終于等來了上市。 1 月 28 日晚間，據(jù)路透社報(bào)道，賈躍亭創(chuàng)辦的法拉第未來汽車公司（簡(jiǎn)稱“FF”）正式公布消息，即將登陸美股納斯達(dá)克市場(chǎng)。 發(fā)表于：1/29/2021 工信部：海思半導(dǎo)體等90家單位申請(qǐng)籌建全國(guó)集成電路標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì) 工信部28日發(fā)布公告，為統(tǒng)籌推進(jìn)集成電路標(biāo)準(zhǔn)化工作，加強(qiáng)標(biāo)準(zhǔn)化隊(duì)伍建設(shè)，有關(guān)單位提出了全國(guó)集成電路標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)籌建申請(qǐng)，秘書處擬設(shè)在中國(guó)電子技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化研究院。為廣泛聽取社會(huì)各界意見，工業(yè)和信息化部現(xiàn)將籌建申請(qǐng)材料予以公示，截止日期為2021年2月27日。委員單位包括深圳市海思半導(dǎo)體有限公司、大唐半導(dǎo)體設(shè)計(jì)有限公司、華大半導(dǎo)體有限公司等90家。 發(fā)表于：1/29/2021 泛林集團(tuán)推出革命性的新刻蝕技術(shù)，推動(dòng)下一代3D存儲(chǔ)器件的制造 上海 ——今日，泛林集團(tuán) (Nasdaq: LRCX) 發(fā)布了專為其最智能化的刻蝕平臺(tái)Sense.i所設(shè)計(jì)的最新介電質(zhì)刻蝕技術(shù)Vantex?；诜毫旨瘓F(tuán)在刻蝕領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位，這一開創(chuàng)性的設(shè)計(jì)將為目前和下一代NAND和DRAM存儲(chǔ)設(shè)備提供更高的性能和更大的可延展性。 發(fā)表于：1/28/2021 詳解 SiP 技術(shù)體系中的三駕創(chuàng)新馬車 如果說系統(tǒng)級(jí)芯片（System on Chip，英文簡(jiǎn)稱 SoC）技術(shù)是摩爾定律不斷發(fā)展所產(chǎn)生的重要產(chǎn)物，那么系統(tǒng)級(jí)封裝（System in Package，英文簡(jiǎn)稱 SiP）技術(shù)便是實(shí)現(xiàn)超越摩爾定律的關(guān)鍵路徑。在“后摩爾定律”所提供的關(guān)鍵助力之下，SiP 生態(tài)系統(tǒng)正持續(xù)創(chuàng)新以緩解因晶體管尺寸日趨物理極限所產(chǎn)生的壓力。 發(fā)表于：1/28/2021 突破天花板！存儲(chǔ)密度一下提高40％！不采用EUV的美光最新1α納米DRAM是如何做到的？ 美光周二宣布使用新型1α制造工藝生產(chǎn)的DRAM開始量產(chǎn)，這是目前世界上最先進(jìn)的DRAM制造技術(shù)。1α制造工藝最初會(huì)用于8Gb和16Gb的DDR4和LPDDR4內(nèi)存生產(chǎn)上，隨著時(shí)間的推移，未來將用于所有類型的DRAM，有望顯著降低DRAM成本。 發(fā)表于：1/28/2021 總投資60億，富能功率半導(dǎo)體8英寸項(xiàng)目一期產(chǎn)品正式下線 據(jù)濟(jì)南日?qǐng)?bào)報(bào)道，1月27日，富能功率半導(dǎo)體8英寸項(xiàng)目一期實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品下線，標(biāo)志著山東首條芯片加工制造線進(jìn)入實(shí)際生產(chǎn)階段，補(bǔ)齊了山東省集成電路產(chǎn)業(yè)的短板。 發(fā)表于：1/28/2021 大陸半導(dǎo)體業(yè)賺錢黑馬！封測(cè)三強(qiáng)凈利最高暴漲20倍 芯東西1月27日?qǐng)?bào)道，一周之內(nèi)，中國(guó)大陸三大封測(cè)廠接連發(fā)布2020年業(yè)績(jī)預(yù)告，其初步核算凈利潤(rùn)均相較上年同期有明顯增幅，三家凈利潤(rùn)的總和最高可達(dá)24億元。 發(fā)表于：1/28/2021 光刻機(jī)研發(fā)：哈工大在國(guó)家急需時(shí)刻從不缺席 哈工大在國(guó)家急需時(shí)刻從不缺席，現(xiàn)在國(guó)家急需光刻機(jī)。哈工大的DPP-EUV光源出來，真的是史詩(shī)級(jí)成果，一流大學(xué)就應(yīng)該有世界頂尖水平，這是哈工大在超精密加工，超精密測(cè)量領(lǐng)域幾十年積累的結(jié)果！ 發(fā)表于：1/28/2021 美國(guó)本土唯一晶圓代工廠的野心 SkyWater是一家能提供批量生產(chǎn)能力的代工廠，公司主要提供130nm混合信號(hào)工藝，以及其位于明尼蘇達(dá)州布盧明頓的200mm晶圓廠的工藝開發(fā)設(shè)施。與大多數(shù)晶圓廠一樣，SkyWater的需求強(qiáng)勁。但是，SkyWater的業(yè)務(wù)模型具有細(xì)微差別，并且具有特殊制造工藝。該公司首席執(zhí)行官Sonderman說：“Skywater提供技術(shù)即服務(wù)和晶圓服務(wù)兩項(xiàng)業(yè)務(wù)。其中，晶圓服務(wù)降低了先進(jìn)技術(shù)服務(wù)的成本，從而為整個(gè)企業(yè)提高了利潤(rùn)?！?/a> 發(fā)表于：1/28/2021 半導(dǎo)體制造攬才戰(zhàn)打響 半導(dǎo)體是典型的資本和技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，因此，它在眾多行業(yè)中，對(duì)資金和人才的需求尤為突出，而在當(dāng)今高度市場(chǎng)化和資本化的全球市場(chǎng)，對(duì)于像半導(dǎo)體這樣的高精尖產(chǎn)業(yè)來說，資本常有而人才稀有。因此，在這個(gè)行業(yè)，優(yōu)秀人才會(huì)被全球企業(yè)“通緝”，爭(zhēng)奪得非常激烈。 發(fā)表于：1/28/2021 ?…233234235236237238239240241242…?
