9月29日消息，半導(dǎo)體工藝越先進(jìn)，對(duì)光刻機(jī)的需求就越高，5nm以下量產(chǎn)更少不了EUV光刻機(jī)，目前全球只有ASML公司能供應(yīng)，臺(tái)積電、三星、Intel等公司都會(huì)向他們下降。

那么這些巨頭中誰(shuí)擁有的EUV光刻機(jī)最多呢？調(diào)研機(jī)構(gòu)BOFA公布了2021到2025年為止的EUV光刻機(jī)數(shù)量，如下所示：

作為全球最大同時(shí)先進(jìn)工藝量產(chǎn)最多的晶圓代工廠，臺(tái)積電這幾年來(lái)購(gòu)買(mǎi)的EUV光刻機(jī)數(shù)量是最多的，除了24年只有10臺(tái)之外，平均每年都在25臺(tái)左右，累積下來(lái)已經(jīng)超過(guò)107臺(tái)，是唯一一家數(shù)量過(guò)百的。

三星從7nm時(shí)代就號(hào)稱(chēng)首發(fā)量產(chǎn)EUV工藝，所以購(gòu)買(mǎi)量也不低，除了今年只有3臺(tái)，以往每年在10-15臺(tái)，累積下來(lái)55臺(tái)，位列第二。

三星不僅在邏輯工藝上使用EUV光刻機(jī)，內(nèi)存芯片上也逐漸用上EUV光刻機(jī)，這也是關(guān)鍵因素。

SK海力士之前三年訂購(gòu)的EUV都很少，這兩年爆發(fā)了一波，總計(jì)有26臺(tái)。

Intel公司之前對(duì)EUV不慎積極，但在Intel 4工藝之后也開(kāi)始應(yīng)用EUV光刻工藝，前任CEO基辛格搞的IDM 2.0甚至加大了對(duì)下一代High NA EUV光刻機(jī)的購(gòu)買(mǎi)，全球第一個(gè)下單出貨，但現(xiàn)在的陳立武叫停了不少工廠建設(shè)，今年EUV采購(gòu)量還是0。

累積下來(lái)這幾年購(gòu)買(mǎi)了25臺(tái)EUV光刻機(jī)，比SK海力士還少1臺(tái)。

美光公司因?yàn)橹饕a(chǎn)內(nèi)存和閃存芯片，而且對(duì)之前也用不到EUV工藝，今年才買(mǎi)了5臺(tái)，總量就是這么多了。

這里面還有一家公司值得注意，那就是日本Rapidus，他們成立才2年時(shí)間，但野心很大，目標(biāo)是2027年量產(chǎn)2nm工藝，所以也早早下單了EUV光刻機(jī)用于研發(fā)，今年就展示過(guò)2nm工藝的晶圓，技術(shù)進(jìn)展值得關(guān)注。

如果他們的目標(biāo)實(shí)現(xiàn)了，未來(lái)Rapidus公司對(duì)EUV光刻機(jī)的需求量也不少。