《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁(yè) > EDA與制造 > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 消息稱三星本月成功研制首批1c nm DRAM良品晶粒

消息稱三星本月成功研制首批1c nm DRAM良品晶粒

未來(lái)將用于 HBM4 內(nèi)存
2024-10-23
來(lái)源:IT之家
關(guān)鍵詞: 三星 1cnm DRAM HBM4

10 月 22 日消息,韓媒 ZDNET Korea 當(dāng)?shù)貢r(shí)間昨日?qǐng)?bào)道稱,三星電子本月首次開(kāi)發(fā)出 1c nm(第 6 代 10nm 級(jí))DRAM 內(nèi)存 Good Die 良品晶粒,公司內(nèi)部對(duì)此給予積極評(píng)價(jià)。

不過(guò)三星的 1c nm DRAM 量產(chǎn)開(kāi)發(fā)尚需一段時(shí)日,首批產(chǎn)品良率不足一成。產(chǎn)能方面,三星電子計(jì)劃在今年底前建成第一條 1c nm DRAM 內(nèi)存量產(chǎn)線。

0.png

▲ 三星電子 HBM 內(nèi)存

參考以往報(bào)道,三星電子下代 HBM 內(nèi)存 HBM4 預(yù)計(jì)將基于 1c nm DRAM,以期通過(guò)制程優(yōu)勢(shì)追趕在 HBM3E 量產(chǎn)供應(yīng)上更為快速的 SK 海力士與美光兩大對(duì)手,奪回在 HBM 領(lǐng)域的市場(chǎng)份額。

根據(jù)行業(yè)以往慣例,每代 DRAM 制程多首先應(yīng)用于 DDR 通用內(nèi)存,然后逐漸擴(kuò)展到 LPDDR,最終再在對(duì) DRAM 良率與性能要求嚴(yán)苛的 HBM 上使用。

不過(guò)考慮到 1c nm DRAM 世代首臺(tái)產(chǎn)線直到今年底才會(huì)建成,全面量產(chǎn)最早也需要到 2025 上半年,而此前消息稱三星電子 HBM4 將于 2025 年底量產(chǎn),這意味著三星很可能在 1c nm 上打破常規(guī)順序,對(duì)該 DRAM 制程的良率與性能爬坡速度提出了更高要求。


Magazine.Subscription.jpg

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無(wú)法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題,請(qǐng)及時(shí)通過(guò)電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。