2月20日，三星宣布其首條基于極紫外光刻（EUV）技術(shù)的半導(dǎo)體生產(chǎn)線V1已經(jīng)開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)。

　　三星表示，一季度V1產(chǎn)線將開(kāi)始首批交付7nm和6nm的移動(dòng)芯片，預(yù)計(jì)到2020年年底，7nm以下的產(chǎn)能將增加兩倍。

　　圖片來(lái)源：三星官網(wǎng)

　　三星 V1生產(chǎn)線位于韓國(guó)華城，2018年2月破土動(dòng)工，于2019年下半年開(kāi)始測(cè)試晶圓生產(chǎn)。

　　“隨著產(chǎn)量的增加，V1系列將增強(qiáng)三星響應(yīng)市場(chǎng)需求的能力，并擴(kuò)大為客戶提供支持的機(jī)會(huì)。” 三星總裁ES Jung博士說(shuō)道。

　　三星指出，V1生產(chǎn)線目前正在生產(chǎn)7nm、6nm移動(dòng)芯片，并將繼續(xù)采用更精細(xì)的電路，直至3nm工藝節(jié)點(diǎn)。

　　根據(jù)該公司的計(jì)劃，到2020年底，V1生產(chǎn)線的累計(jì)總投資將達(dá)到60億美元，預(yù)計(jì)7nm及以下工藝節(jié)點(diǎn)的總產(chǎn)能將比2019年增長(zhǎng)兩倍。

　　三星表示，隨著半導(dǎo)體幾何尺寸越來(lái)越小，EUV光刻技術(shù)的采用變得越來(lái)越重要，為5G，AI和汽車等下一代應(yīng)用提供了最佳選擇。

　　隨著V1生產(chǎn)線的投入使用，三星現(xiàn)在在韓國(guó)和美國(guó)共有6條生產(chǎn)線，其中包括5條12英寸生產(chǎn)線和1條8英寸生產(chǎn)線。

　　圖片來(lái)源：三星官網(wǎng)

　　此前梳理發(fā)現(xiàn)，早在2018年6月，臺(tái)積電已透露量產(chǎn)7nm工藝，2019年二季度量產(chǎn)7nm EUV工藝。

　　另外，對(duì)于7nm以下工藝，2月18日，路透社報(bào)道指出，三星已獲得高通5nm部分訂單。雖然臺(tái)積電今年也將量產(chǎn)5nm工藝，但三星仍希望通過(guò)提升這項(xiàng)工藝，在與臺(tái)積電激烈的競(jìng)爭(zhēng)中獲得市場(chǎng)份額。