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我國預備修訂集成電路布圖設計保護條例

一是完善了集成電路布圖設計登記注冊和確權(quán)程序，強化知識產(chǎn)權(quán)源頭保護。要求申請人提交的申請文件能夠清晰展示和確定布圖設計受保護的內(nèi)容，并將不符合該要求的情形作為駁回和撤銷的理由。增加依申請啟動撤銷程序的規(guī)定，以便更好地平衡各方權(quán)益。二是加強集成電路布圖設計專有權(quán)保護，有效維護權(quán)利人合法權(quán)益。明確專有權(quán)保護范圍以提交的復制件和圖樣為準，布圖設計的獨創(chuàng)性聲明用于解釋復制件和圖樣。新增誠信原則相關(guān)規(guī)定，引入對嚴重故意侵權(quán)行為的懲罰性賠償制度。增加訴前證據(jù)保全的相關(guān)規(guī)定，以便更加有效地保護權(quán)利人的合法權(quán)益，降低維權(quán)成本。三是促進布圖設計實施和運用，助推新質(zhì)生產(chǎn)力發(fā)展。新增職務創(chuàng)作獎酬的相關(guān)規(guī)定，規(guī)定法人或非法人組織應當在布圖設計登記后，對創(chuàng)作布圖設計的自然人進行獎勵，布圖設計實施后，根據(jù)其推廣應用的范圍和取得的經(jīng)濟利益，對創(chuàng)作布圖設計的自然人應當給予合理報酬。完善布圖設計共有權(quán)人行使權(quán)利以及專有權(quán)轉(zhuǎn)讓、許可和質(zhì)押等相關(guān)規(guī)定，更加充分激發(fā)創(chuàng)新創(chuàng)造熱情。

發(fā)表于：5/16/2025