揭秘半导体制造全流程(下篇)[EDA与制造][工业自动化]
我们已经从前两篇的文章中了解了半导体制造的前几大步骤,包括晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀和薄膜沉积。
發(fā)表于:2021/8/10 下午1:56:00
揭秘半导体制造全流程(中篇)[EDA与制造][工业自动化]
在《揭秘半导体制造全流程(上篇)》 中,我们给大家介绍了晶圆加工、氧化和光刻三大步骤。本期,我们将继续探索半导体制造过程中的两大关键步骤:刻蚀和薄膜沉积。
發(fā)表于:2021/8/9 下午3:20:33
我们已经从前两篇的文章中了解了半导体制造的前几大步骤,包括晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀和薄膜沉积。
發(fā)表于:2021/8/10 下午1:56:00
在《揭秘半导体制造全流程(上篇)》 中,我们给大家介绍了晶圆加工、氧化和光刻三大步骤。本期,我们将继续探索半导体制造过程中的两大关键步骤:刻蚀和薄膜沉积。
發(fā)表于:2021/8/9 下午3:20:33