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EDA與制造相關(guān)文章

索斯科于 2018 年中國安博會上展示先進(jìn)的解決方案

全球領(lǐng)先的工程進(jìn)入解決方案供應(yīng)商索斯科其子公司索斯科亞洲有限公司今日宣布參加 2018 年第 14 屆中國國際社會公共安全產(chǎn)品博覽會，簡稱 2018 年中國安博會。本屆安博會將于 10 月 23 日至 26 日在北京中國國際展覽中心（新館）舉行，屆時(shí)，索斯科將展示一系列先進(jìn)的安防產(chǎn)品，可廣泛應(yīng)用于機(jī)器人、人工智能 (AI)、無人機(jī)、監(jiān)控?cái)z像頭以及智能公共照明系統(tǒng)。

發(fā)表于：11/1/2018

華大借路積塔吞下先進(jìn)半導(dǎo)體

積塔半導(dǎo)體及先進(jìn)半導(dǎo)體聯(lián)合宣布，雙方于2018年10月30日簽訂合并協(xié)議。積塔半導(dǎo)體將吸收合并先進(jìn)半導(dǎo)體，并將以超20億元注銷先進(jìn)半導(dǎo)體的股票。

發(fā)表于：11/1/2018

格芯全資子公司Avera Semi正式成立

8月份，格芯宣布將擱置7納米 FinFET項(xiàng)目，并調(diào)整相應(yīng)研發(fā)團(tuán)隊(duì)來支持強(qiáng)化的產(chǎn)品組合方案。同時(shí)，格芯為了更好地施展格芯在ASIC設(shè)計(jì)和IP方面的強(qiáng)大背景和重大投資，將建立獨(dú)立于晶圓代工業(yè)務(wù)外的ASIC業(yè)務(wù)全資子公司。

發(fā)表于：11/1/2018

揭秘納米制程工藝背后的虛與實(shí)

我們經(jīng)常在某手機(jī)發(fā)布會現(xiàn)場聽到，“××處理器采用了最先進(jìn)的10nm工藝制造”，那么究竟這個(gè)10nm代表著什么意思呢？納米制程對于CPU、SoC而言到底多重要？又與晶體管、FinFET以及EUV有什么關(guān)系呢？一顆CPU誕生過程，其中第七步的紫外線曝光就是最重要的光刻技術(shù)，而光刻工藝是集成電路制造過程中最直接體現(xiàn)其工藝先進(jìn)程度的技術(shù)，其中光刻技術(shù)的分辨率是指光刻系統(tǒng)所能分辨和加工的最小線條尺寸，決定了CPU中的晶體管最小特征尺寸。

發(fā)表于：11/1/2018

一圖看懂什么是納米制程

所謂的納米制程對半導(dǎo)體業(yè)而言到底多重要，又與摩爾定律、FinFET 及 EUV 等常見關(guān)鍵字有什么關(guān)聯(lián)呢？本文帶您一探中國臺灣地區(qū)半導(dǎo)體發(fā)展以及制程技術(shù)。

發(fā)表于：11/1/2018

臺積電宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn) 并透露了5納米節(jié)點(diǎn)的首個(gè)時(shí)間表

持續(xù)同時(shí)朝多面向快速進(jìn)展的晶圓代工大廠臺積電（TSMC），于美國硅谷舉行的年度技術(shù)研討會上宣布其7納米制程進(jìn)入量產(chǎn)，并將有一個(gè)采用極紫外光微影（EUV）的版本于明年初量產(chǎn)；此物該公司也透露了5納米節(jié)點(diǎn)的首個(gè)時(shí)間表，以及數(shù)種新的封裝技術(shù)選項(xiàng)。

發(fā)表于：11/1/2018

臺積電5nm節(jié)點(diǎn)投資250億美元，而3nm工藝也確定了

在下一代制程工藝上，有實(shí)力有財(cái)力走得更遠(yuǎn)的半導(dǎo)體公司沒幾家了，聯(lián)電已經(jīng)放棄了12nm以下的先進(jìn)工藝，英特爾還掙扎在10nm節(jié)點(diǎn)，目前公布5nm及3nm計(jì)劃的只有臺積電和三星兩家，其中臺積電5nm節(jié)點(diǎn)投資250億美元，而3nm工藝也確定了投資計(jì)劃了，投資規(guī)模6000億新臺幣，目前臺南園區(qū)的3nm工廠已經(jīng)通過了環(huán)評初審，預(yù)計(jì)最快2022年底投產(chǎn)。

發(fā)表于：11/1/2018

臺積電5nm工藝2020年量產(chǎn) 開發(fā)成本更高

在臺積電原來的計(jì)劃中，5nm工藝最早會在2020年開始量產(chǎn)，但隨著7nm工藝的產(chǎn)品獲得華為麒麟980、蘋果A12、高通驍龍8150等芯片的大規(guī)模量產(chǎn)，臺積電已經(jīng)迫不及待的將5nm工藝提前一年。作為對比，英特爾的10nm工藝最早計(jì)劃在2016年面世，早前的傳言中，英特爾的10nm工藝要到2020年可能順利量產(chǎn)，但英特爾最近突然宣布10nm工藝解決了良率問題，對于臺積電等廠商來說都不是好消息。

發(fā)表于：11/1/2018

三星宣布5nm、4nm、3nm工藝！全新晶體管架構(gòu)

這兩年，三星電子、臺積電在半導(dǎo)體工藝上一路狂奔，雖然有技術(shù)之爭但把曾經(jīng)的領(lǐng)導(dǎo)者Intel遠(yuǎn)遠(yuǎn)甩在身后已經(jīng)是不爭的事實(shí)。

發(fā)表于：11/1/2018

EUV微影技術(shù)7nm制程正在接近 5nm制程還比較遙遠(yuǎn)

EUV被認(rèn)為是推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制造更小芯片的重要里程碑，但是根據(jù)目前的EUV微影技術(shù)發(fā)展進(jìn)程來看，10奈米（nm）和7nm制程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)準(zhǔn)備就緒，就是5nm仍存在很大的挑戰(zhàn)。

發(fā)表于：11/1/2018

7nm、5nm的技術(shù)研發(fā)將讓芯片成本超2億美元

Q3臨近，各家公司的財(cái)報(bào)也是悲喜兩重天，而全球最大的光刻機(jī)公司荷蘭ASML公司保持開掛態(tài)勢，當(dāng)季營收27.8億歐元，凈利潤6.8億歐元，同比增長13.4%，出貨了5臺EUV光刻機(jī)。據(jù)悉，ASML預(yù)計(jì)全年出貨18臺，明年將增長到30臺，為何光刻機(jī)的生意如此“紅火”？

發(fā)表于：11/1/2018

5nm技術(shù)指日可待 EUV技術(shù)有重磅突破

全球一號代工廠臺積電宣布了有關(guān)極紫外光刻(EUV)技術(shù)的兩項(xiàng)重磅突破，一是首次使用7nm EUV工藝完成了客戶芯片的流片工作，二是5nm工藝將在2019年4月開始試產(chǎn)。今年4月開始，臺積電第一代7nm工藝(CLN7FF/N7)投入量產(chǎn)，蘋果A12、華為麒麟980、高通“驍龍855”、AMD下代銳龍/霄龍等處理器都正在或?qū)褂盟圃?，但仍在使用傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)技術(shù)。

發(fā)表于：11/1/2018

英特爾、三星、臺積電納米制程進(jìn)展如何？

而競爭對手三星和臺積電，在14/16nm節(jié)點(diǎn)之后好像開掛一樣，10nm工藝都已經(jīng)量產(chǎn)商用，其中臺積電拿下了華為麒麟970、蘋果A11，三星則搞定了高通驍龍845。最近也相繼曝光7nm工藝研制成功。但英特爾的10nm工藝才剛剛落地，差距有點(diǎn)大了！

發(fā)表于：11/1/2018

分析師：英特爾最少落后臺積電5年，可能永遠(yuǎn)追不上了

9月28日下午消息，據(jù)中國臺灣地區(qū)媒體報(bào)道，羅森布拉特（Rosenblatt Securities）證券公司的分析師Mosesmann在8月底的一份報(bào)告中表示，處理器大廠英特爾（Intel）在半導(dǎo)體制程上的瓶頸不只是10納米節(jié)點(diǎn)的延期，而且需要許多時(shí)間來解決這個(gè)問題，因?yàn)檫@將造成英特爾制程劣勢持續(xù)5年、6年、甚至7年時(shí)間。

發(fā)表于：11/1/2018

三星臺積電制程工藝已領(lǐng)先Intel？真相并非如此！

以前一扯到CPU關(guān)于新制程進(jìn)程方面的東西，一些大佬就要開始提摩爾定律，作為Intel創(chuàng)始人之一戈登·摩爾提出的這項(xiàng)理論，Intel無疑是目前最為堅(jiān)定的捍衛(wèi)者之一，不過隨著現(xiàn)目前臺積電和三星方面在工藝節(jié)點(diǎn)方面的全面超越已經(jīng)開始量產(chǎn)10nm和即將試產(chǎn)的7nm工藝，在進(jìn)度方面那可是比Intel方面快多了，很多朋友到現(xiàn)在也沒有想清楚具體原因，今兒個(gè)小獅子就來跟大家聊這個(gè)話題。

發(fā)表于：11/1/2018