9月17日消息,據(jù)報道,中芯國際正在測試由上海初創(chuàng)公司宇量昇生產(chǎn)的深紫外線(DUV)光刻機,正測試的光刻機采用浸沒式技術,類似于ASML所采用的技術。
過去,中芯國際高度依賴從荷蘭半導體設備大廠ASML進口的DUV,但是近年來由于美國的出口管制,只能獲得較舊設備。
知情人士透露,中芯國際正在測試一臺28納米的DUV設備,并利用多重曝光來生產(chǎn)7納米芯片。
據(jù)透露,中芯國際試用的這類設備也能被推向極限以生產(chǎn)5納米處理器,但良率會偏低,無法再進一步制造更先進的產(chǎn)品。
報道稱,如果能夠量產(chǎn)先進的DUV光刻機,這將是中國大陸突破美國芯片出口管制的重大勝利,不僅能減少對西方技術的依賴,還能提升先進AI處理器的產(chǎn)能。
還有分析師表示:“如果測試成功,這將是中國企業(yè)的重要一步,未來可在此基礎上推進更先進的設備?!?/p>
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