眾所周知，目前的芯片制造，基本上是基于光刻工藝，所以必須用到光刻機(jī)。

而光刻機(jī)又芯片工藝制程對(duì)應(yīng)，如下力所示，比如G線、i線對(duì)應(yīng)的是350nm及以上的芯片工藝，而KrF對(duì)應(yīng)的是350-130nm。

ArF對(duì)應(yīng)的是130-65nm；而ArFi是ArF的改進(jìn)版，也稱之為浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，對(duì)應(yīng)的是65-7nm；EUV是極紫外線光刻機(jī)，對(duì)應(yīng)的是7nm以下。

目前，全球的光刻機(jī)市場(chǎng)，主要被荷蘭的ASML壟斷，ASML一家就占了全球90%的份額。其中先進(jìn)的ArFi光刻機(jī)，ASML占了95%，EUV光刻機(jī)，ASML占了100%。

日本的尼康、佳能更多的只是ArF、KrF這些較為成熟的光刻機(jī)，佳能沒有ArFi光刻機(jī)，尼康沒有EUV光刻機(jī)，而ArFi光刻機(jī)，也非常少，主要市場(chǎng)還是ASML的。

而中國(guó)上海的微電子，水平還在ArF，工藝制程在90nm，所以國(guó)內(nèi)一直以來就是大量采購(gòu)ASML的光刻機(jī)。

美國(guó)之前是不允許ASML的EUV光刻機(jī)賣到中國(guó)大陸來，所以至今為止，中國(guó)大陸的晶圓廠，都沒有EUV光刻機(jī)。

后來，美國(guó)更想鎖死中國(guó)大陸的邏輯芯片工藝在14nm，于是又聯(lián)手日本、荷蘭，對(duì)光刻機(jī)進(jìn)一步限制。

其中日本表示所有的浸潤(rùn)式光刻機(jī)，都不能出口到中國(guó)。而荷蘭的ASML則表示，所有的浸潤(rùn)式光刻機(jī)中，只有一臺(tái)NXT:1985Di能出口。

后來在2023年10月份，美國(guó)禁令再次升級(jí)，ASML唯一一臺(tái)能夠出口的NXT:1985Di也被禁了，無法再出口到中國(guó)大陸來了。

不過ASML也稱，2023年他們還是拿到了許可證，所以2024年內(nèi)，所有的浸潤(rùn)式光刻機(jī)都能夠賣到中國(guó)大陸來，但2024年開始，就不行了，所以目前ASML的浸潤(rùn)式DUV光刻，EUV光刻機(jī)，正式斷供了。

所以我們看到，2023年內(nèi)，中國(guó)大陸在大量的從ASML進(jìn)口光刻機(jī)，數(shù)據(jù)顯示，1-11月份，中國(guó)大陸向ASML進(jìn)口的光刻機(jī)金額已經(jīng)超過了500億元，是2022年的3倍左右。

很明顯，中國(guó)大陸在趁著ASML還能出口浸潤(rùn)式光刻機(jī)，瘋狂大采購(gòu)，瘋狂囤貨，畢竟2024年開始，浸潤(rùn)式光刻機(jī)就買不到了。

按照業(yè)內(nèi)人士的預(yù)測(cè)，今年從ASML采購(gòu)的光刻機(jī)，理論上能夠支撐國(guó)內(nèi)3年左右的晶圓擴(kuò)產(chǎn)需求，但3年之后，甚至也可能不需要3年，可能就會(huì)又缺光刻機(jī)了，特別是缺尖端光刻機(jī)了，比如ArFi、EUV這兩種。

所以接下來，國(guó)產(chǎn)芯片想要突破，就需要國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破了，因?yàn)锳SML短時(shí)間之內(nèi)，是拿不到出口許可證的，浸潤(rùn)式ArFi光刻機(jī)、EUV光刻機(jī)應(yīng)該只能靠我們自己，不要想著進(jìn)口了。