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八英寸晶圓廠的“問題”

2021-05-31
來源: 半導體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: 晶圓 8英寸

保守來講,當下8英寸(200mm)晶圓的供應鏈情況相當嚴峻!

然而,這絕不是新問題。中國臺灣的市場調(diào)查公司一一TrendForce于2020年11月發(fā)布新聞稱:“就8英寸晶圓的產(chǎn)能而言,自2019年下半年以來一直持續(xù)在嚴重的供給不足問題”。

此外,雪上加霜的是2021年3月瑞薩電子那珂工廠發(fā)生了火災。由于瑞薩的此處工廠為諸多車型供貨,因此導致問題更加惡化。

基于以上背景,導致諸多因素“糾纏”在一起。但是,不言而喻,最大的原因還是在于新冠疫情(COVID-19)。由于新冠疫情的發(fā)生,耳機、電腦、電視、顯示屏、手機等各種電子產(chǎn)品的需求猛增。

雖然汽車也屬于以上范疇,但人們還是希望汽車市場會在2021年內(nèi)從新冠疫情的陰影中恢復。如今各種產(chǎn)品都在推廣將多種功能匯集于一體的SoC(System on Chip)模式,因此很多產(chǎn)品都需要搭載多個具備數(shù)?;旌闲盘枺∕ixed Signal Chip)的IC。以上產(chǎn)品的用途方向主要有以下:PMIC(Power Management IC)、CMOS圖像傳感器、指紋識別傳感器、汽車發(fā)動機/底盤控制、顯示屏驅(qū)動IC、Sub Giga Hertz的無線通信芯片等。一般情況下,以上這些都適用180納米、350納米工藝,用8英寸晶圓生產(chǎn)。

即,用于這種數(shù)?;旌闲盘栃酒∕ixed Signal Chip)、功率半導體的產(chǎn)品需求不斷增長,這導致了8英寸晶圓的產(chǎn)能不足。

受到8英寸晶圓的供給達到極限的影響,代工廠(Foundry)很有可能會擴大產(chǎn)能。代工廠可能會收購垂直統(tǒng)籌型廠家(IDM:Integrated Device Manufacturer)的8英寸晶圓生產(chǎn)設(shè)備和產(chǎn)線??闪信e的事例如下:最近有報道指出,中國臺灣的UMC正在討論收購Japan Semiconductor(原東芝的半導體制造公司) 的8英寸產(chǎn)線。

沒有供生產(chǎn)廠家

正如Trend Force的報道指出的一樣,自2019年下半年開始的嚴重的半導體供給不足問題,可以推測的原因是幾乎沒有廠家可以生產(chǎn)出8英寸晶圓的設(shè)備,即使現(xiàn)在也是如此,因此半導體生產(chǎn)設(shè)備的價格不斷高漲。

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TSMC的采用8英寸、12英寸晶圓的工藝

此外,8英寸晶圓的價格較12英寸低得多,因此,代工廠普遍認為擴大8英寸產(chǎn)能的成本效率更差。因此,產(chǎn)生了一系列連鎖反應,如一部分代工廠就對客戶提高了8英寸晶圓的價格。

換句話說,就8英寸晶圓的情況而言,與其說“供應鏈混亂”,不如說其特點是“供應廠家不足”。 

一部分“移步”12英寸晶圓

就12英寸(300mm)晶圓的代工廠而言,以TSMC、GLOBALFOUNDRIES為代表的各家企業(yè)為擴大產(chǎn)能而在火熱地投資,然而,卻看不到任何有關(guān)8英寸的改善情況。

由于8英寸晶圓產(chǎn)能沒有任何改善,因此一部分廠家正在從現(xiàn)有的180nm、350nm的8英寸產(chǎn)線轉(zhuǎn)為使用12英寸晶圓。此外,很多代工廠可以提供用12英寸晶圓生產(chǎn)的130nm工藝,因此可用作二次供給源或者主要供給源。因此,這有助于提高供應鏈的地理多樣性。 

180納米、130納米工藝技術(shù)的特征

180納米和130納米工藝雖然有類似的工藝,但也有不同的地方。主要是晶體管的閾值電壓的下降程度不同,核心供給電壓為1.8V一1.5V,或者低至1.2V。此外,由于存在各種工藝技術(shù)的選擇項,因此可以支持5V/3.3V的IO電壓,就對于模擬/RF設(shè)計極其重要的被動零部件而言,這些工藝特征極其類似。

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用于Mixed Signal  ASIC等產(chǎn)品的主要節(jié)點技術(shù)比較圖

12英寸晶圓技術(shù)有多個優(yōu)勢。由于可代替舊代際技術(shù)中的鋁而使用銅,因此電流密度允許值也較高,耐電遷移性也較優(yōu)秀。此外,金屬層的層數(shù)也較多,晶體管尺寸較小,因此,通過提高晶體管密度、布線密度,可以縮小芯片尺寸、提高性能。

此外,大部分180納米工藝技術(shù)和大部分的130nm BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)工藝技術(shù)都可以支持STI(Shallow Trench Isolation,淺槽隔離)等功能,因此與大部分在350納米技術(shù)中使用的LOCOS(Local Oxidation of Silicon)絕緣相比,因此可以獲得較高的密度、閂鎖效應(Latch Up)保護機能等。因此,達到提高線路性能和穩(wěn)定性的效果。

如今,130納米 BCD工藝已經(jīng)相當成熟,因此可作為各種工藝技術(shù)的選擇項。如不同級別的高壓晶體管、非揮發(fā)性存儲半導體、MIM(金屬一一絕緣膜一一金屬)電容、穩(wěn)壓二極管(Zener)/肖特基二極管等。因此,不僅可以將復雜的模擬/RF功能與SoC解決方案融合,還可以提供其他優(yōu)勢。

 8英寸晶圓還有很多優(yōu)勢

8英寸晶圓還有很多優(yōu)勢,比方說,用350納米制造的8英寸晶圓的價格優(yōu)勢。

原因如下:生產(chǎn)設(shè)備已經(jīng)完成折舊、生產(chǎn)工藝相對簡單(層數(shù)少)。此外,一部分模擬線路未必能夠在新工藝中順利實現(xiàn)微縮化,因此與130納米同等程度的半導體芯片的價格可能會高于350納米。但是,當因零部件不足導致無法生產(chǎn)產(chǎn)品時,大部分情況下會發(fā)生極其嚴重的情況,而不是單純的半導體芯片的成本差。

此外,現(xiàn)階段人們的關(guān)注點是盡管各家代工廠都在從8英寸轉(zhuǎn)到12英寸,但卻沒有一家廠家做出任何發(fā)言。對于Mixed Signal  ASIC熟練的廠家雖然在努力,但首先應該著手于線路圖的端口、IC 的數(shù)據(jù)手冊(Data Sheet)。

就為重新設(shè)計ASIC所需的投資而言,應該統(tǒng)籌一下其他產(chǎn)品,以免同樣受到如8英寸供應鏈同樣問題。

130納米的特征尺寸(Feature Size)較小,因此可以在不增加成本的情況下與“Arm Cortex-M”系列核融合。低端CPU所需要的芯片面積僅為數(shù)平方毫米,而且有可能以較高的效率與64kbit/128kbit的SRAM融合。

從如今的數(shù)據(jù)手冊來看,從設(shè)計ASIC、量產(chǎn)、獲得認證的日程需要14個月一一24個月(依復雜程度而定),最初的Proto Type Silicon應該可以在一年內(nèi)完成。如果是車載產(chǎn)品,從制作規(guī)格書到PPAP(Production part approval process,生產(chǎn)件批準程序)大概需要24個月一一36個月(依復雜程度而定)。130納米ASIC的一般預算為60萬美元起步(依據(jù)實際的復雜程度和IP知識產(chǎn)權(quán)內(nèi)容而定),如果依據(jù)AEC-Q100的話,費用為400萬美元左右。如今,130納米工藝(12英寸晶圓)的Mask Tool的成本為20萬美元以下,占整體成本的比例較低。

很多Mixed Signal Device都是由供給不足的8英寸晶圓制造的,由于8英寸晶圓產(chǎn)線的投資不足(原因是投資收益率低下),未來供應鏈問題還會繼續(xù)存在。

此次的半導體供給不足問題某種程度上是一個“警告”,如今使用8英寸晶圓的企業(yè)應該首先考慮一下未來的需求。此外,無論是主要生產(chǎn)據(jù)點,還是第二供應商(Second Source),在所有的工藝完成之前都需要確保足夠的時間。




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