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追平台积电 三星2nm工艺良率已突破60%

2026-03-25
來源:IT之家

3 月 24 日消息,三星半導(dǎo)體制造領(lǐng)域取得突破,其先進的2nm工藝良率近期已突破 60%。這一進展將使該公司能夠以更低成本生產(chǎn)更多高性能芯片,同時吸引新客戶。

據(jù) Hankyung 報道,三星2nm工藝的良率在短短兩個季度內(nèi)增長了兩倍多。去年下半年,該工藝良率僅約 20%,導(dǎo)致晶圓上的大部分芯片無法使用。如今良率突破 60%,三星已與臺積電的良率水平基本持平。據(jù)悉,行業(yè)龍頭臺積電的 2 納米工藝良率在 60% 至 70% 之間。

三星正為自家 Exynos 2600 智能手機處理器生產(chǎn)2nm工藝芯片,根據(jù)不同市場,這款自研芯片將搭載于部分三星 Galaxy S26 及 S26+ 機型。

報道稱,盡管 Exynos 2600 芯片良率仍未達到 50%,但相比前代產(chǎn)品,三星已成功提升了其性能與生產(chǎn)效率。

由于工藝精度要求極高,2nm制程的良率提升難度極大。更高的良率不僅能降低生產(chǎn)成本,還能幫助三星拿下更多全球客戶的訂單。該公司已與特斯拉簽訂了價值 165 億美元(注:現(xiàn)匯率約合 1137.92 億元人民幣)的合同,其晶圓代工部門將在泰勒芯片制造廠為這家車企生產(chǎn)下一代 AI6 芯片。

行業(yè)觀察人士表示,小于5nm的先進芯片在信息技術(shù)設(shè)備中的應(yīng)用正日益廣泛。若三星能實現(xiàn)穩(wěn)定且可觀的2nm良率,將吸引更多尋求尖端半導(dǎo)體解決方案的客戶。如此一來,這家韓國晶圓代企業(yè)有望在未來幾年縮小與主要競爭對手臺積電在市場份額方面的差距。=

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