8 月 20 日消息，韓媒 businesskorea 今天（8 月 20 日）發(fā)布博文，曝料稱三星計劃削減 High-NA EUV 采購規(guī)模，而且和 ASML 聯(lián)合創(chuàng)立研究中心項目也遇到諸多障礙。

圖源：ASML

三星于 2023 年 12 月和 ASML 簽署了一份諒解備忘錄（MOU），將在韓國首都圈建立一個 EUV 聯(lián)合研究中心。

援引消息源報道，三星原本計劃在未來 10 年內(nèi)，采購 Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后續(xù) Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻機，而最新報道稱三星已經(jīng)通知 ASML，不僅削減 Twinscan EXE:5000 系列 EUV 光刻機采購數(shù)量，而且后續(xù)僅采購 EXE:5200。

報道稱這一決定是在副董事長 Jun Young-hyun 被任命為 DS（設備解決方案）部門的新負責人，并重新審查正在進行的項目和投資之后做出的。

一位熟悉情況的業(yè)內(nèi)人士說：

在京畿道華城購買土地建造研究設施的過程以及設計和審批過程都在進行中，然而，隨著三星決定減少設備引進，相關(guān)進程已完全停止。

聯(lián)合研究中心是否會在其他地方建立，或者建立本身是否會被取消，將在今后的討論中決定。