《電子技術(shù)應(yīng)用》
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SK海力士采用EUV量產(chǎn)第四代10nm級DRAM

2021-07-13
來源:OFweek電子工程網(wǎng)
關(guān)鍵詞: SK海力士 EUV 10nm DRAM

K海力士宣布,開始啟用EUV光刻機(jī)閃存內(nèi)存芯片。

具體來看,已經(jīng)于7月初開始量產(chǎn)適用第四代10nm(1a)級工藝的 8Gigabit(Gb) *LPDDR4 移動端DRAM(動態(tài)隨機(jī)存儲器)產(chǎn)品。

此次SK海力士量產(chǎn)的1a納米級工藝是繼1x(第一代)、1y(第二代)、1z(第三代)之后的第四代工藝節(jié)點(diǎn)。SK海力士預(yù)計(jì)從下半年開始向智能手機(jī)廠商供應(yīng)采用1a nm級技術(shù)的移動端 DRAM。

在此之前,SK海力士曾在生產(chǎn)1y nm級產(chǎn)品中部分采用了EUV技術(shù),完成了對其穩(wěn)定性的驗(yàn)證。這對采用EUV技術(shù)進(jìn)行量產(chǎn)DRAM產(chǎn)品具有非凡的意義。

相比于前一代1z nm級工藝,1a nm級DRAM在每一張晶圓中可產(chǎn)出的產(chǎn)品數(shù)量約提高了25%,帶來了生產(chǎn)效率的提升和更高的成本競爭力。1a nm級DRAM穩(wěn)定支持 LPDDR4 移動端DRAM規(guī)格的最高速度(4266Mbps),并相較前一代產(chǎn)品其功耗也降低了約20%。SK海力士認(rèn)為此次新產(chǎn)品進(jìn)一步強(qiáng)化了低功耗的優(yōu)勢,助力碳排放量的減少,充分體現(xiàn)了SK海力士注重ESG(環(huán)境、社會、公司治理)經(jīng)營的精神理念。

啟用EUV技術(shù)光刻機(jī)閃存內(nèi)存芯片的還包括三星和美光,不過美光時(shí)間上要更晚一些,預(yù)計(jì)在2024年生產(chǎn)新的EUV內(nèi)存芯片。




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