美光技術公司正在使用極紫外（EUV）光刻技術來加快DRAM的開發(fā)。它正在參加由世界排名第一和第二的DRAM制造商三星電子和SK Hynix發(fā)起的競賽。

　　美光科技公司正在尋找工程師，他們將通過各種招聘站點負責開發(fā)EUV設施。工程師將負責開發(fā)EUV掃描儀技術，管理新的EUV設備并與ASML（世界上唯一的EUV設備生產商）進行通信。

　　美光在全球DRAM市場中排名第三，僅次于三星電子和SK Hynix。它的市場份額約為20％。

　　美光最近在NAND閃存領域首次推出了176層產品。與其他頂級DRAM制造商一樣，該公司正在生產10納米第三代（1z）產品。預計該芯片制造商將在2021年上半年推出第四代（1a）DRAM。

　　但是，美光與三星電子和SK海力士之間的主要區(qū)別在于，美光不會將EUV技術應用于1a DRAM。

　　美光公司在最近的一份聲明中建議，鑒于高成本和技術局限性，它甚至可能不會將EUV技術應用于下一代DRAM“ 1-beta”產品。

　　美光公司副總裁Scott DerBauer表示，該公司將在1-delta產品的生產中引入EUV工藝。