根據(jù)芯思想研究院的數(shù)據(jù)表明，2018年全球光刻機(jī)出貨逾600臺(tái)，較2017年的460臺(tái)增幅達(dá)30%。
2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨374臺(tái)，較2017年的294臺(tái)增加80臺(tái)，增長(zhǎng)27.21%。
2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭光刻機(jī)總營(yíng)收118.92億歐元，較2017年增長(zhǎng)25.21%。
從EUV、ArFi、ArF機(jī)型的出貨來(lái)看，全年共出貨134臺(tái)。其中ASML出貨120臺(tái)，占有9成的市場(chǎng)。
ASML
2018年ASML光刻機(jī)出貨224臺(tái)，營(yíng)收達(dá)82.76億歐元，較2017年成長(zhǎng)35.74%。其中EUV光刻機(jī)營(yíng)收達(dá)18.86億歐元，較2017年增加7.85億歐元。
2018年ASML共出貨224臺(tái)光刻機(jī)，較2017年198年增加26臺(tái)，增長(zhǎng)13.13%。其中EUV光刻機(jī)出貨18臺(tái)，較2017年增加7臺(tái)；ArFi光刻機(jī)出貨86臺(tái)，較2017年增加10臺(tái)；ArF光刻機(jī)出貨16臺(tái)，較2017年增加2臺(tái)；KrF光刻機(jī)出貨78臺(tái)，增加7臺(tái)；i-line光刻機(jī)出貨26臺(tái)，和2017年持平。
2018年單臺(tái)EUV平均售價(jià)1.04億歐元，較2017年單臺(tái)平均售價(jià)增長(zhǎng)4%。而在2018年一季度和第四季的售價(jià)更是高達(dá)1.16億歐元。
目前全球知名廠商包括英特爾Intel、三星Samsung、臺(tái)積電TSMC、SK海力士SK Hynix、聯(lián)電UMC、格芯GF、中芯國(guó)際SMIC、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶(hù)。
2018年中國(guó)已經(jīng)進(jìn)口多臺(tái)ArFi光刻機(jī)，包括長(zhǎng)江存儲(chǔ)、華力微二期。
Nikon
2018年度（非財(cái)年），Nikon光刻機(jī)出貨106臺(tái)，營(yíng)收達(dá)20.66億歐元，較2017年成長(zhǎng)25.29%。
2018年度，Nikon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨36臺(tái)，比2017年度增加9臺(tái)，增長(zhǎng)33.33%。其中ArFi光刻機(jī)出貨5臺(tái)，較2017年度減少1臺(tái)；ArF光刻機(jī)出貨9臺(tái)，較2017年度增加1臺(tái)；KrF光刻機(jī)出貨5臺(tái)，較2017年度增加3臺(tái)；i-line光刻機(jī)出貨17臺(tái)，較2017年度增加6臺(tái)。
2018年度，Nikon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨36臺(tái)中，其中全新機(jī)臺(tái)出貨19臺(tái)，翻新機(jī)臺(tái)出貨17臺(tái)。
2018年度，Nikon面板（FPD）用光刻機(jī)出貨70臺(tái)。
Canon
2018年Canon光刻機(jī)出貨183臺(tái)，營(yíng)收達(dá)15.5億歐元，較2017年微增1.6%。
2018年Canon半導(dǎo)體用光刻機(jī)出貨達(dá)114臺(tái)，較2017年增加44臺(tái)，增長(zhǎng)62.85%。但是主要是i-line、KrF兩個(gè)低端機(jī)臺(tái)出貨。
2018年全年面板（FPD）用光刻機(jī)出貨69臺(tái)。
其他光刻機(jī)公司
上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限光刻機(jī)主要用于廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD、MEMS、LED、功率器件等制造領(lǐng)域，2018年出貨大概在50-60臺(tái)之間。
德國(guó)SUSS光刻機(jī)主要用于半導(dǎo)體集成電路先進(jìn)封裝、MEMS、LED，2018年光刻機(jī)收入約1.2億歐元，較2017年增長(zhǎng)約7個(gè)百分點(diǎn)。
ASML公司EUV進(jìn)展
2018年，ASML和IMEC建設(shè)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，目標(biāo)一是加速EUV技術(shù)導(dǎo)入量產(chǎn)；二是實(shí)驗(yàn)以0.55 NA取代目前的0.33 NA，具有更高NA的EUV微影系統(tǒng)能將EUV光源投射到較大角度的晶圓，從而提高分辨率，并且實(shí)現(xiàn)更小的特征尺寸。
2019年下半年，ASML將推出每小時(shí)吞吐量為170片的EUV新機(jī)型NXE：3400C；2021年將推出0.55 NA的新機(jī)型EXE：5000，可用于2納米生產(chǎn)。
ASML預(yù)估2019年全年將出貨30臺(tái)EUV光刻機(jī)，據(jù)悉DRAM公司也將于2019年開(kāi)始采用EUV光刻機(jī)制造。