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全球首次極紫外光刻!三星7nm提前半年完工

2018-04-08
關(guān)鍵詞: 三星 臺積電 7nm 5nm

  據(jù)報道,三星已經(jīng)完成了7nm新工藝的研發(fā),而且比預(yù)期進(jìn)度提早了半年,這為三星與臺積電爭搶高通驍龍855代工訂單奠定了基礎(chǔ)。

  自從16/14nm節(jié)點(diǎn)開始,三星和臺積電的工藝之爭愈發(fā)激烈,都不斷砸下巨資加速推進(jìn)新工藝。

  眼下,雙方的10nm工藝都已經(jīng)成功商用,其中臺積電拿下了華為麒麟970、蘋果A11,三星則搞定了高通驍龍845。

  7nm工藝上,臺積電因?yàn)檠赜贸墒旒夹g(shù)進(jìn)展順理,今年第一季度已投產(chǎn),將代工華為麒麟980,還有消息稱一并收獲了蘋果A12、高通驍龍855。

  三星因?yàn)樵?nm上投入了技術(shù)更先進(jìn)、但難度極高的EUV極紫外光刻,而且是全球第一個,原本預(yù)計(jì)要到今年下半年才能完成,沒想到提前了足足半年。

  受此鼓舞,高通已經(jīng)將新的芯片樣品送交三星進(jìn)行測試,不知道是不是驍龍855。

  在此之前,三星已經(jīng)宣布7nm工藝已經(jīng)贏得了高通5G芯片的訂單,只要進(jìn)展順利再獲得驍龍855也是水到渠成。

  消息人士稱,三星7nm研發(fā)團(tuán)隊(duì)已經(jīng)完成任務(wù),全面轉(zhuǎn)向了5nm工藝的研發(fā),而兩種工藝共享設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)庫(DB),下一步的難度會大大降低。

  而臺積電計(jì)劃在7nm升級版上試用EUV極紫外光刻,時間安排在明年,全面應(yīng)用EUV得到2020年的5nm,這下要落后三星一大截了。

  Intel方面的10nm也還沒有出來,已經(jīng)遲到了好幾年,7nm更得最快也要三四年之后,EUV應(yīng)用則一直沒有時間表。

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