《電子技術(shù)應(yīng)用》
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臺積電高管:摩爾定律存亡無所謂,關(guān)鍵是技術(shù)持續(xù)進步

2024-07-29
來源:IT之家
關(guān)鍵詞: 臺積電 摩爾定律 芯片制造

7 月 28 日消息,臺積電工藝技術(shù)主管張曉強(Kevin Zhang)博士在接受采訪時表示,他并不關(guān)心摩爾定律是否依然有效,只要技術(shù)能夠持續(xù)進步即可。

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摩爾定律曾指出,半導體市場經(jīng)濟僅取決于晶體管密度,而與功耗無關(guān)。然而,隨著應(yīng)用的發(fā)展,芯片制造商開始關(guān)注性能、功耗和面積(PPA)的提升,以保持持續(xù)進步。

臺積電的優(yōu)勢在于每年都能推出新的工藝技術(shù),并為客戶提供所需的 PPA 改進。蘋果作為臺積電最重要的客戶,其處理器的發(fā)展歷程正是臺積電工藝技術(shù)進步的縮影。

不過,臺積電的能力遠不止于此。AMD 的 Instinct MI300X 和 MI300A 處理器充分利用了臺積電的 2.5D 和 3D 封裝技術(shù),是其技術(shù)實力的最佳例證。

張曉強認為,業(yè)界對摩爾定律的定義過于狹隘,僅限于二維擴展。而實際上,半導體行業(yè)一直在尋找不同的方法,將更多的功能和能力集成到更小的封裝中,同時提升性能和能效。因此,從這個角度來看,摩爾定律,或者說技術(shù)進步,將繼續(xù)下去。

當被問及臺積電在漸進式工藝節(jié)點改進方面取得的成功時,張曉強強調(diào),其工藝節(jié)點的進步遠非微小,從 5 納米級工藝節(jié)點過渡到 3 納米級工藝節(jié)點,每代 PPA 改進超過 30%。臺積電繼續(xù)在主要節(jié)點之間進行較小但持續(xù)的增強,使客戶能夠從每一代新技術(shù)中獲益。


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