ASML對外展示了最新EUV光刻機內(nèi)部畫面，或許在他們看來，就算把這些全部展現(xiàn)給大家看，也沒辦法來偷師他們的技術。

該系統(tǒng)已獲得英特爾公司的訂單，首臺機器已于去年年底運抵其位于俄勒岡州的D1X工廠，英特爾計劃在 2025 年年底開始使用該系統(tǒng)進行生產(chǎn)。

High-NA EUV光刻機能夠在半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產(chǎn)品的1/1.7。更細的線條意味著芯片可以容納更多的晶體管，從而實現(xiàn)更快的處理速度和更高的存儲容量，這對于人工智能工作負載至關重要。

該公司上季度收到了創(chuàng)紀錄的頂級EUV光刻機訂單，顯示了包括英特爾、三星電子和臺積電在內(nèi)的大客戶對該技術的樂觀預期，由于種種因素限制，中國廠商是沒辦法被允許購買這些設備的。

有網(wǎng)友甚至感慨，即便這些內(nèi)部結構展示給國產(chǎn)廠商，可能真正阻礙下也沒辦法去逆向推演復刻。