日前，南大光電披露其《2020年度向特定對(duì)象發(fā)行股票預(yù)案》。預(yù)案顯示，南大光電擬向不超過35名特定對(duì)象發(fā)行股票，募集資金總額不超過6.35億元（含本數(shù)），扣除發(fā)行費(fèi)用后的凈額將用于光刻膠項(xiàng)目、擴(kuò)建2000噸/年三氟化氮生產(chǎn)裝置項(xiàng)目以及補(bǔ)充流動(dòng)資金。

（圖片來源：截圖于南大光電公告）

其中，光刻膠項(xiàng)目總投資額6.60億元，擬使用募集資金金額1.50億元，項(xiàng)目目標(biāo)到2021年底，將在我國：1）首次建立ArF光刻膠產(chǎn)品大規(guī)模生產(chǎn)線，形成年產(chǎn)25噸ArF（干式和浸沒式）光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)能力，產(chǎn)品性能滿足90nm-14nm集成電路制造的要求。產(chǎn)品通過IC芯片制造企業(yè)的使用認(rèn)證，實(shí)現(xiàn)批量銷售；2）建立國內(nèi)第一個(gè)專業(yè)用于ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)的檢測評(píng)估平臺(tái)。平臺(tái)配備ArF光刻機(jī)、涂膠顯影一體機(jī)、特征尺寸掃描電鏡、缺陷檢測和分析等檢測設(shè)備，滿足先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品和技術(shù)開發(fā)的需求；3）建立一支具有國際水平的先進(jìn)光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化隊(duì)伍。

該項(xiàng)目的實(shí)施單位為南大光電子公司寧波南大光電材料有限公司，建設(shè)內(nèi)容包括“先進(jìn)光刻膠及高純配套材料的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”和“ArF光刻膠產(chǎn)品的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”。前者完全達(dá)產(chǎn)后，將建成光刻膠研發(fā)中心、先進(jìn)光刻膠的分析測試中心，以及年產(chǎn)350噸的高純顯影液的生產(chǎn)線；后者完全達(dá)產(chǎn)后，將建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠的生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠的生產(chǎn)線以及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純?cè)噭┑纳a(chǎn)線。

公告指出，光刻膠及配套試劑在晶圓制造材料中合計(jì)占比約12%，為第4大晶圓制造材料，且其技術(shù)開發(fā)難度大，被譽(yù)為半導(dǎo)體材料“皇冠上的明珠”。目前國內(nèi)光刻膠生產(chǎn)產(chǎn)能主要集中在PCB光刻膠、LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品，但高端光刻膠中ArF浸沒式光刻膠是集成電路28nm、14nm乃至10nm以下制程的關(guān)鍵，而我國高端光刻膠幾乎處于空白狀態(tài)。南大光電已率先制備出國內(nèi)首款A(yù)rF光刻膠產(chǎn)品，但目前尚未量產(chǎn)。

南大光電表示，本次募投項(xiàng)目實(shí)施完畢后，將實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)先進(jìn)光刻膠及配套材料的進(jìn)口替代，有助于解決高端光刻材料“卡脖子”的問題；推進(jìn)公司光刻膠業(yè)務(wù)布局，實(shí)現(xiàn)國內(nèi)高端光刻膠零的突破，提升我國高端光刻膠這一領(lǐng)域的自主可控水平。

此外，擴(kuò)建2000噸/年三氟化氮生產(chǎn)裝置項(xiàng)目擬投資3億元，擴(kuò)建2000噸/年三氟化氮生產(chǎn)裝置項(xiàng)目，包括：5#三氟化氮電解廠房、6#三氟化氮電解廠房、3#三氟化氮后處理廠房。項(xiàng)目的實(shí)施單位為山東飛源氣體有限公司。

公告指出，2019年11月，公司開始布局含氟電子特氣業(yè)務(wù)，完成了對(duì)飛源氣體的收購。公司通過本次募投項(xiàng)目的實(shí)施，將擴(kuò)大三氟化氮?dú)怏w產(chǎn)能，從而深化含氟電子特氣領(lǐng)域投資布局，增強(qiáng)對(duì)公司集成電路客戶的服務(wù)能力，擴(kuò)大公司產(chǎn)品的市場份額，參與含氟電子特氣全球競爭，保持公司在電子特氣領(lǐng)域的領(lǐng)先地位和市場競爭力。