4月14日，南大光電在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)表示，公司研發(fā)的ArF光刻膠主要定位于90nm－28nm集成電路的制程應(yīng)用，公司ArF光刻膠產(chǎn)品分別通過一家存儲(chǔ)芯片制造企業(yè)和一家邏輯芯片制造企業(yè)的驗(yàn)證，目前多款產(chǎn)品正在多家客戶同時(shí)進(jìn)行認(rèn)證。

南大光電表示，目前公司有多款A(yù)rF光刻產(chǎn)品在國內(nèi)大型芯片制造企業(yè)進(jìn)行測試。光刻膠是客制化產(chǎn)品，技術(shù)含量高，驗(yàn)證周期長，且體量不大。因?yàn)槭翘娲M(jìn)口，所以我們研發(fā)的產(chǎn)品需要適應(yīng)客戶端的工藝參數(shù)，留給我們的調(diào)整空間很小，所以驗(yàn)證難度大。目前驗(yàn)證進(jìn)展順利，預(yù)計(jì)今年年底會(huì)有幾款產(chǎn)品通過驗(yàn)證。公司也將抓緊推進(jìn)市場拓展工作，爭取盡快實(shí)現(xiàn)批量銷售。

據(jù)了解，早在2016年，南大光電參股了北京科華微電子材料有限公司，便開始了研發(fā)“193nm光刻膠項(xiàng)目”，并且該公司是唯一一家通過了EUV光刻膠“02專項(xiàng)”研發(fā)的企業(yè)。彼時(shí)，南大光電便宣稱，計(jì)劃用3年的時(shí)間實(shí)現(xiàn)ArF光刻膠產(chǎn)品的建設(shè)、投產(chǎn)和銷售，最終達(dá)到年產(chǎn)25噸193nm ArF光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模。

此外，有投資者問到，公司三大主線產(chǎn)品MO源，特氣和ARF光刻膠，在國內(nèi)的市場容量分別有多大？公司這三大產(chǎn)品在國內(nèi)市場的占比分別是多少？公司未來能拓展的三大產(chǎn)品市場容量分別有多大空間？

南大光電表示，公司各類產(chǎn)品市場占有率如下：MO源：國內(nèi)約40％；前驅(qū)體：國內(nèi)約8％；氫類電子特氣：國內(nèi)約60％；氟類電子特氣：三氟化氮國內(nèi)市占率約為35％，國外市占率約為10％；六氟化硫主要在國內(nèi)銷售，市占率約為20％。

同時(shí)，南大光電還在努力實(shí)施MO源2．0計(jì)劃，通過技術(shù)創(chuàng)新不斷優(yōu)化產(chǎn)品和客戶結(jié)構(gòu)，先進(jìn)前驅(qū)體材料如28nm和14nm制程前驅(qū)體、硅前驅(qū)體等產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化取得重要突破；氫類電子特氣在技術(shù)、品質(zhì)、產(chǎn)能和銷售各方面已躍居世界前列；氟類電子特氣方面公司加快烏蘭察布“試驗(yàn)田”建設(shè)，為建設(shè)“世界單項(xiàng)冠軍”產(chǎn)品奠定堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。