9月8日消息，EUV光刻機是制造5nm以下工藝的關鍵設備，同樣重要的還有EUV光刻膠，現(xiàn)在無錫宣布國內首個掌握EUV光刻膠核心技術的平臺啟動了。

來自無錫政府網(wǎng)站的消息，9月4日2025集成電路（無錫）創(chuàng)新發(fā)展大會開幕。

本次大會上宣布了多個重磅項目，除了算力平臺外，還有2個值得關注的——無錫先進制程半導體納米級光刻膠中試線作為全國首個掌握MOR型光刻膠核心原材料、配方及應用技術的創(chuàng)新平臺，其研發(fā)生產的光刻膠將對標世界一流水準。

另一個則是江蘇（集萃）光刻膠樹脂合成中試線是全國唯一采用連續(xù)流技術制備光刻膠樹脂的研發(fā)平臺，首創(chuàng)高分子穩(wěn)定合成的聚合裝備與工藝。

其中MOR型光刻膠就是針對EUV時代光刻膠的新技術，它指的是金屬氧化物光阻劑，取代了目前DUV光刻膠所用的CAR化學增幅型光阻劑，是提高光刻分辨率、縮小柵極距、降低缺陷率的關鍵材料之一。

不僅5nm以下的工藝需要先進EUV光刻膠，DRAM內存工藝也會逐漸導入到EUV時代，同樣需要EUV光刻膠，NAND閃存暫時還沒有需要EUV工藝，但未來一樣需要EUV工藝才能進一步提升密度。