三星宣布,新加入了11nm LPP工藝,性能比此前的14nm提升了15%,單位面積的功耗降低了10%。三星將于9月15日在東京舉辦的半導體會議上公布,未來的技術還會有所提升。
三星表示,10nm用于旗艦手機,11nm用于中高端,來提供給不同需求,預計2018年上半年在市場投放。與此同時,三星也成為了市場上最先確認7nm的企業(yè),其7nm LPP定于2018下半年量產,采用EUV極紫外光刻技術。
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