8月29日消息，臺(tái)積電2nm工藝竊密案日前偵結(jié)，有3人起訴，最高可判14年，后果非常嚴(yán)重。

這件事還牽涉到了日本KEL威力科創(chuàng)，其中的主犯陳某就是從臺(tái)積電離職后加入了這家公司，他們也是全球TOP級(jí)的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商。

事發(fā)之后，威力科創(chuàng)已經(jīng)開除了這名員工，并且日前再次發(fā)表公告稱經(jīng)該公司內(nèi)部調(diào)查，截至目前未發(fā)現(xiàn)相關(guān)機(jī)密信息外泄至第三方，亦未發(fā)現(xiàn)有組織性地指示該名前員工獲取不當(dāng)信息的行為。

盡管該公司否認(rèn)跟竊密案有關(guān)系，但是他們對臺(tái)積電2nm工藝感興趣是跑不掉的，但為什么要覬覦這個(gè)技術(shù)呢?之前有說法是威力科創(chuàng)也是日本Rapidus公司的合作伙伴，而后者也在研發(fā)2nm工藝，目標(biāo)是2027年量產(chǎn)該技術(shù)。

不過這個(gè)只是業(yè)界猜測，臺(tái)積電是他們最大的客戶之一，威力科創(chuàng)沒必要為他人火中取栗，里面的關(guān)鍵原因還是利益，因?yàn)樵摴鞠Ｍ@得臺(tái)積電2nm工藝的設(shè)備訂單，特別是刻蝕設(shè)備訂單。

說到半導(dǎo)體設(shè)備，很多人都知道光刻機(jī)的重要性，2nm需要EUV光刻機(jī)，一臺(tái)售價(jià)就要1.5億到2億美元了，下一代High NA EUV光刻機(jī)甚至要3-4億美元以上。

除了EUV光刻機(jī)，先進(jìn)工藝對刻蝕機(jī)的要求也非常高，臺(tái)積電一座2nm工廠需要100臺(tái)以上的刻蝕機(jī)，每臺(tái)售價(jià)300到400萬美元，算下來訂單價(jià)值在3-4億美元以上，比光刻機(jī)價(jià)值還高。

有能力競爭臺(tái)積電2nm工廠刻蝕訂單的也就三家廠商，除了威力科創(chuàng)，還有美國的LAM科林集團(tuán)、AM應(yīng)用材料公司，他們會(huì)競爭臺(tái)積電未來將近10座2nm晶圓廠的訂單。

威力科創(chuàng)的員工勾結(jié)臺(tái)積電員工獲取2nm工藝的資料，顯然這有助于威力科創(chuàng)針對臺(tái)積電工藝改進(jìn)，提高獲得訂單的機(jī)會(huì)，本質(zhì)上還是商業(yè)利益作祟。

這個(gè)解釋相比各種猜測已經(jīng)合理多了，不過威力科創(chuàng)公司早已經(jīng)撇清關(guān)系，否認(rèn)這個(gè)員工是獲得指示去竊密，顯然推給員工個(gè)人承擔(dān)了。

至于威力科創(chuàng)與臺(tái)積電未來的關(guān)系，多年的合作也不會(huì)說丟就丟，此前消息稱威力科創(chuàng)社長也會(huì)去拜訪臺(tái)積電，雙方肯定還得談，2nm的訂單也要爭取，無外乎價(jià)碼高低而已。