據(jù)業(yè)內消息，近日，Intel副總裁兼技術開發(fā)主管Ann·Kelleher在美國舊金山舉行的新聞發(fā)布會上透露，Intel將開始量產4nm制程工藝并在明年下半年進入3nm制程，未來有望重新奪回工藝領先地位。
Kelleher表示，Intel已經走上了正軌，每個季度都設定相應的里程碑，因此將一步步進入領先地位，但是不需要在所有方面都處于領先地位，現(xiàn)階段Intel與設備制造商的合作比過去更加緊密。
Intel計劃在2027年前開發(fā)并投入生產5個工藝節(jié)點，目前正在量產7nm，目前準備開始生產4nm，之后開始3nm，并希望在2025年憑借18A GAA工藝成為工藝領導者。
但是前不久Intel代工負責人Randhir·Thakur辭職，因此業(yè)內認為Intel代工可能會面臨更大的挑戰(zhàn)。14nm工藝之前Intel在制程工藝還是領先的，在10nm以下就被臺積電和三星甩掉了。
Intel的CEO Pat·Gelsinger一直想要奪回芯片制造技術的領導者地位，去年第一季度宣布IDM 2.0，表示投資200億美元在亞利桑那州建設兩座晶圓廠來提升產能。不僅如此，Intel還組建了獨立的晶圓代工部門，決心成為全球主要芯片代工商之一。
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