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引入EUV光刻機,SK海力士M16新廠竣工

2021-02-01
來源:全球半導體觀察
關鍵詞: EUV光刻機 海力士 M16

  2021年2月1日,SK海力士在韓國京畿道利川總部舉行M16新廠竣工儀式。

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  據(jù)了解,SK海力士M16于2018年11月開建,總投資3.5萬億韓元。M16廠將主要生產DRAM產品,總面積5.7萬平方米,相當于8個足球場,長335米、寬163米、高105米,是SK海力士國內外生產設施中規(guī)模最大的工廠。

  官方信息顯示,SK海力士首次在M16配備EUV(Extreme Ultraviolet,極紫外)光刻機,通過在M16廠采用先進基礎設備,準備把新廠發(fā)展成為公司的下一代發(fā)展動力。

  SK海力士計劃運用EUV光刻機,從今年下半年起生產第四代1a納米級DRAM產品。SK海力士今后將提高EUV設備利用率,進一步增強存儲器半導體相關的先進工程技術領導力。

  SK海力士表示,M16的竣工也意味著SK海力士于2015年在利川M14廠竣工典禮上宣布的“未來愿景”提前完成。此前,SK海力士宣布自2014年起十年內在韓國建造包括M14在內的3個新廠。2018年于韓國清州完成M15廠的建設后,通過此次M16順利竣工公司成功地提早三年實現(xiàn)其“未來愿景”目標。

  值得一提的是,SK海力士在電話會議中透露,利川M16廠將從今年開始進行試產,并視情況調整,預計6月就能完成試產,接著正式展開大規(guī)模量產。


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