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2030年僅EUV光刻機(jī)的年耗電量將超過54000吉瓦

2024-11-05
來源:芯智訊

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11月4日消息,根據(jù)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)TechInsights的最新發(fā)布的報(bào)告稱,隨著極紫外 (EUV) 光刻技術(shù)的演進(jìn),該技術(shù)日益增長的能源要求或?qū)⒊蔀橐淮箅y題。

目前EUV光刻技術(shù)是制造7nm及以下先進(jìn)制程所需的關(guān)鍵技術(shù),荷蘭的 ASML 和比利時的 imec 一直是EUV光刻技術(shù)研發(fā)方面的領(lǐng)軍企業(yè)。ASML下一代High NA EUV不僅系統(tǒng)龐大且復(fù)雜(設(shè)備在晶圓廠中需要更多的空間,尤其是高度,因此往往用于新的晶圓廠),同時成本也非常高昂,達(dá)到了3.5億美元。

美國政府近日還宣布提供8.25億美元的聯(lián)邦資金,以支持在紐約州奧爾巴尼打造EUV技術(shù)研發(fā)中心。這也是美國政府在2013年Cymer被ASML收購之后,對于光刻技術(shù)研發(fā)的重新重視。

在此之前的2023年12月11日,美國紐約州還宣布與包括IBM、美光、應(yīng)用材料(Applied Materials)、東京電子(Tokyo Electron)等半導(dǎo)體大廠達(dá)成一項(xiàng)合作協(xié)議,預(yù)計(jì)將投資100億美元在紐約州奧爾巴尼納米技術(shù)綜合體興建下一代High-NA EUV半導(dǎo)體研發(fā)中心,以支持世界上最復(fù)雜、最強(qiáng)大的半導(dǎo)體的研發(fā)。

此外,英特爾今年已經(jīng)領(lǐng)先全球在其位于俄勒岡州的晶圓廠內(nèi)安裝了兩臺High NA EUV光刻機(jī),以為其Intel 18A以下尖端制程做準(zhǔn)備。

“我們現(xiàn)在憑借'領(lǐng)先一步'戰(zhàn)略做好了充分準(zhǔn)備,可以對市場需求做出快速反應(yīng),”英特爾首席執(zhí)行官 Pat Gelsigner 近日表示?!半S著我們現(xiàn)已完成向 EUV 的過渡以及 Intel 18A 的推出,我們在 Intel 14A 及更高版本的節(jié)點(diǎn)開發(fā)節(jié)奏更加正常。此外,我們的團(tuán)隊(duì)瘋狂地專注于提高晶圓廠的生產(chǎn)力,隨著時間的推移,這使我們能夠以更少的資源生產(chǎn)更多的產(chǎn)品。”

TechInsights指出,一臺High NA EUV設(shè)備的功率高達(dá)1400KW,這也是半導(dǎo)體工廠中最為耗電的設(shè)備。而隨著配備EUV光刻機(jī)的晶圓廠數(shù)量的不斷增長,對于電力的需求將會激增,這將對應(yīng)電力基礎(chǔ)設(shè)施提出非常大的挑戰(zhàn)。

TechInsights 目前正在跟蹤 31 家使用 EUV 光刻技術(shù)的晶圓廠,另外 28 家工廠將在 2030 年底之前安裝EUV光刻機(jī)。這將使正在運(yùn)行的 EUV 光刻機(jī)數(shù)量增加一倍以上,相當(dāng)于每年僅為 EUV 系統(tǒng)供電就需要超過 6,100 吉瓦(1吉瓦= 1000兆瓦= 1000000千瓦)。

預(yù)計(jì)到2030 年,僅 EUV 光刻機(jī)的年用電量估計(jì)就可能超過 54,000 吉瓦,這比新加坡或希臘等許多國家每年的耗電量還要多。這凸顯了對可持續(xù)能源解決方案的迫切需求,以支持半導(dǎo)體行業(yè)不斷增長的需求。

雖然目前的500 多家半導(dǎo)體制造公司當(dāng)中,只有少數(shù)公司擁有支持 EUV 光刻機(jī)和相關(guān)技術(shù),但已經(jīng)對于特定的區(qū)域能源網(wǎng)帶來了影響。比如已經(jīng)使用EUV系統(tǒng)進(jìn)行大批量生產(chǎn)的臺積電位于中國臺灣的晶圓廠、韓國的三星和SK海力士晶圓廠、美光位于日本的晶圓廠、美國亞利桑那州的英特爾和臺積電晶圓廠、美國俄亥俄州的英特爾晶圓廠、美光位于紐約州及愛達(dá)荷州的晶圓廠以及三星位于得克薩斯州的晶圓廠。

雖然 EUV 設(shè)備是半導(dǎo)體晶圓廠最耗能的設(shè)備,但它們目前僅占晶圓廠內(nèi)總耗電量的 11% 左右。其他半導(dǎo)體設(shè)備、基礎(chǔ)設(shè)施和 HVAC(供暖/通風(fēng)/空調(diào))系統(tǒng)也會對整體能源消耗產(chǎn)生重大影響。

TechInsights 高級可持續(xù)發(fā)展分析師 Lara Chamness 表示,為了確保可持續(xù)的未來,半導(dǎo)體制造行業(yè)需要投資節(jié)能技術(shù),探索可再生能源,并與政策制定者合作,以應(yīng)對電力基礎(chǔ)設(shè)施的挑戰(zhàn)。


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