《電子技術應用》
您所在的位置:首頁 > EDA與制造 > 業(yè)界動態(tài) > 消息稱臺積電今明兩年將接收超60臺EUV光刻機

消息稱臺積電今明兩年將接收超60臺EUV光刻機

相關投資超四千億新臺幣
2024-07-01
來源:IT之家
關鍵詞: 臺積電 EUV光刻機

7 月 1 日消息,據(jù)臺媒《工商時報》報道,臺積電將在 2024~2025 年接收超 60 臺 EUV 光刻機,而其今明兩年在 EUV 光刻機上的投入將超 4000 億新臺幣(當前約 896.61 億元人民幣)。

報道表示,ASML 的 EUV 光刻機目前供應緊張,從下單到交付的整體周期已達 16~20 個月。

臺積電今明兩年將分別下達約 30 和 35 臺的 EUV 光刻機訂單,這些訂單中的大部分將從 2026 年開始交付。

臺媒援引供應鏈消息指出,ASML 對 2025 年產能的規(guī)劃是 20 臺 High-NA EUV 光刻機、90 臺 EUV 光刻機和 600 臺 DUV 光刻機。

0.png

▲ ASML 目前最先進的 0.33NA EUV 光刻機 NXE:3800E

根據(jù)臺積電官方路線圖,其目前已規(guī)劃的最先進工藝 16A 將于 2026 年量產,仍采用傳統(tǒng) 0.33NA EUV 光刻機。換句話說,臺積電暫未考慮在量產制程中導入 High-NA。

雖然 ASML 方面已確認將在 2024 年內向臺積電交付 High-NA EUV 光刻機,但這一機臺僅用于制程開發(fā)目的。

臺媒也表示,臺積電暫無在 2025~2026 年引入量產用 High-NA EUV 光刻機的規(guī)劃。


Magazine.Subscription.jpg

本站內容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉載內容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權歸版權所有權人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內容無法一一聯(lián)系確認版權者。如涉及作品內容、版權和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。