《電子技術(shù)應(yīng)用》
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韓國(guó)EUV光刻技術(shù)獲重大突破

2020-11-19
來(lái)源:OFweek電子工程網(wǎng)
關(guān)鍵詞: 韓國(guó) EUV 三星 5nm工藝

    11月17日消息,韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局(KIPO)公布的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,2011-2020年,韓國(guó)EUV光刻專利2014年有88項(xiàng),2018年有55項(xiàng),2019年則為50項(xiàng)。

    據(jù)報(bào)道,以三星為代表的韓國(guó)企業(yè)通過(guò)不斷的在研究開發(fā)方面投入,在EUV光刻技術(shù)上不斷縮小與行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)之間的差距。近期,三星正式推出的Exynos1080芯片,背后就有對(duì)EUV光刻機(jī)技術(shù)突破的因素。

    Exynos1080芯片是三星首款基于5nm工藝制造的手機(jī)SoC芯片。

    

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