基于Ga2O3的場效應(yīng)器件研究進(jìn)展 | |
所屬分類:技術(shù)論文 | |
上傳者:aetmagazine | |
文檔大?。?span>660 K | |
標(biāo)簽: Ga2O3 寬禁帶半導(dǎo)體 場效應(yīng)晶體管 | |
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文檔介紹:氧化鎵(Ga2O3)作為第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料,由于其超寬帶隙、高擊穿場強(qiáng)以及高巴利加優(yōu)值等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于大功率器件等領(lǐng)域,已成為近幾年來國內(nèi)外科研人員研究的熱點(diǎn)。主要介紹了Ga2O3材料的特性,總結(jié)了基于Ga2O3的場效應(yīng)晶體管(FET)的研究進(jìn)展,對Ga2O3功率器件的發(fā)展進(jìn)行了思考?xì)w納。 | |
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