《電子技術(shù)應(yīng)用》
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MEMS加速計(jì)高壓滅菌器失效機(jī)理與設(shè)計(jì)改進(jìn)
摘要: 高壓滅菌器測(cè)試之后在MEMS 加速計(jì)器件上觀察到偏移變化。微機(jī)械傳感器的失效有三個(gè)原因: 封裝應(yīng)力導(dǎo)致的偏移變化、電阻漏電和寄生電容變化。本文討論了識(shí)別高壓滅菌器失效根源所采用的FA方法。根據(jù) FA 結(jié)果,建議了一個(gè)糾正措施,即提高產(chǎn)品魯棒性,防止高壓滅菌器失效的設(shè)計(jì)方法。
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介紹

高壓滅菌器測(cè)試也叫高壓鍋測(cè)試,是惡劣環(huán)境所用的器件通常都要求進(jìn)行的一種質(zhì)量測(cè)試。 直到最近,汽車安全行業(yè)才開始提出高壓滅菌器測(cè)試要求,以檢驗(yàn)用于氣囊傳感器的 MEMS加速計(jì) [1]。為了進(jìn)行此測(cè)試,器件在環(huán)境試驗(yàn)箱不帶電存儲(chǔ)96/168小時(shí),環(huán)境試驗(yàn)箱的氣壓為15psig、溫度為120oC,相對(duì)濕度為100%。高壓滅菌器經(jīng)過一定的暴露時(shí)間后,器件在室溫下重新測(cè)試。

盡管傳感器的傳感結(jié)構(gòu)在密封環(huán)境下封裝,以防止水分入侵,但MEMS加速計(jì)仍要承受高壓滅菌壓力,因?yàn)樗芰习b材料可在過壓和過濕條件下吸收水分。要測(cè)試加速計(jì)對(duì)高壓滅菌器壓力的易感性,我們將80個(gè) MEMS加速計(jì)置于高壓滅菌器測(cè)試條件下。如圖1所示,加速計(jì)由MEMS傳感單元(g-cell)和控制ASIC組成,采用堆疊芯片結(jié)構(gòu)組裝在一個(gè)QFN 封裝中。傳感單元由飛思卡爾二聚表面微流構(gòu)成,使用玻璃熔塊通過晶片鍵合技術(shù)密封在密封腔里。

高壓滅菌器測(cè)試結(jié)果顯示,25oC時(shí),9個(gè)部件無(wú)法達(dá)到偏移規(guī)范,要求9位輸出的偏移變化少于+/- 26個(gè)計(jì)數(shù)。失效部件的最大偏移變化是-48/+39個(gè)計(jì)數(shù)。 當(dāng)部件進(jìn)行168小時(shí)測(cè)試時(shí),發(fā)現(xiàn)了更多器件失效(與偏移變化的失效行為相同)。還發(fā)現(xiàn)這些部件在-40oC 和125oC下具有較小的偏移變化和較緊湊的分布。失效器件還顯示在空氣中暴露一段時(shí)間后,出現(xiàn)緩慢回歸規(guī)范的“自愈”行為。在正常大氣條件下進(jìn)行120℃焙燒,可以加速恢復(fù)過程。失效和恢復(fù)流程是可重復(fù)和可逆的。


圖 1. MEMS 加速計(jì): (a) QFN 封裝視圖(模具帽未顯示);(b) LSM角度的傳感單元芯片視圖

為了確定高壓滅菌器失效的根源,我們創(chuàng)建了一個(gè)失效分析魚骨圖(圖2),全面查看高壓滅菌器測(cè)試條件下(濕度、壓力和溫度)偏移變化的所有可能原因。從以下四個(gè)主要方面審查了設(shè)計(jì)和制造工藝:封裝、ASIC、傳感器(g-cell)和測(cè)試。因此發(fā)現(xiàn)了微機(jī)械傳感獨(dú)有的三種失效機(jī)理。這三種機(jī)理是:

  • 導(dǎo)致偏移變化的封裝應(yīng)力
  • 電阻漏電
  • 寄生電容變化

II. 封裝應(yīng)力影響

環(huán)氧樹脂塑封(EMC)材料能吸收水分,且吸熱會(huì)膨脹 [2]。掃描聲學(xué)顯微鏡(C-SAM)檢測(cè)還揭示,復(fù)合模具和引線框架之間出現(xiàn)過多分層。這些變化會(huì)改變封裝和傳感單元的應(yīng)力狀態(tài),從而引起偏移變化。FEA 封裝建模(圖3)用于模擬這種應(yīng)力變化的影響。這個(gè)模型考慮了 EMC 和引線框架之間的非對(duì)稱分層。根據(jù)達(dá)到平衡時(shí)水分?jǐn)z取大于0.54%這一原理,試驗(yàn)還假設(shè)吸濕應(yīng)力為0.15%。


圖 2. 高壓滅菌器失效分析魚骨圖

FEA 模擬結(jié)果顯示,傳感器的慣性質(zhì)量位移相當(dāng)對(duì)稱,但是由于分層和吸濕膨脹,封裝的位移場(chǎng)不對(duì)稱。模擬顯示,吸濕膨脹引起的位移與125℃時(shí)熱應(yīng)變引起的位移數(shù)量級(jí)相同。 封裝應(yīng)力引起的最大偏移變化預(yù)測(cè)只有4個(gè)計(jì)數(shù)(最壞情況)。

用激光蝕刻去除傳感單元周圍的主要EMC部分,進(jìn)一步分析失效器件。這一做法思路是,封裝的應(yīng)力場(chǎng)將大幅改變,如果器件對(duì)封裝應(yīng)力敏感,這可能導(dǎo)致偏移變化。但測(cè)試結(jié)果顯示,大部分EMC移除之后,器件只有非常小的偏移變化。這一結(jié)果符合原來(lái)的 FEA預(yù)測(cè),EMC的吸濕膨脹只會(huì)對(duì)偏移變化產(chǎn)生非常小的影響,封裝應(yīng)力作為高壓滅菌器失效的根源被排除。

盡管研究顯示封裝應(yīng)力不是高壓滅菌器失效的根源,值得一提的是,這歸因于應(yīng)力不敏感傳感器/封裝設(shè)計(jì)。封裝吸濕應(yīng)力非常大,如果傳感器設(shè)計(jì)不正確,可能成為導(dǎo)致高壓滅菌器失效的主要原因。減少封裝應(yīng)力易感性的設(shè)計(jì)策略已在[3]中討論。

 

圖3 . EMC 吸濕膨脹的FEA模擬


圖4. 剝層分析,消除封裝應(yīng)力作為失效根源

III. 漏電影響

環(huán)氧材料的介電性能也可以通過水分?jǐn)z取來(lái)改變。如圖4所示,攝取水分之后,環(huán)氧/玻璃/云母復(fù)合材料的體積電阻率減少10倍以上(高達(dá)1%)。此外,盡管高壓滅菌器試驗(yàn)箱中使用了去離子水,高壓滅菌器大氣的水凝結(jié)可以把封裝材料內(nèi)的離子污染聚集在一起,形成不同潛力的傳感器之間的漏電通道。

MEMS傳感器的加工步驟也有助于形成潛在的漏電通道。一方面,犧牲性氧化蝕刻步驟中使用的氫氟酸可能留下氟離子。而且,密封材料(玻璃熔塊)中富含氧化鉛,特定條件下可以沉淀成導(dǎo)電鉛結(jié)。圖5中的SEM圖顯示了玻璃熔塊鍵合區(qū)出現(xiàn)的結(jié)節(jié)或團(tuán)塊非常明顯(但Auger 分析不能區(qū)別它們是鉛還是氧化鉛)。

圖 5. 玻璃熔塊區(qū)的SEM圖


圖6 調(diào)制器掃頻測(cè)量結(jié)果

應(yīng)該指出的是,如果“火”線和地線之間存在電阻漏電,則會(huì)出現(xiàn)偏移變化。∑△ 調(diào)制器前端對(duì)保存在差分電容器中的電荷(即傳感單元)進(jìn)行采樣。理想情況是,當(dāng)傳感單元帶有Vref電荷時(shí),電荷傳送到集成電容器,不會(huì)隨著時(shí)間推移而改變。但是如果充電電極(或火線)與地線之間存在漏電通道,就不會(huì)將所有電荷傳送到集成電容器,電荷可能漏電到地線,導(dǎo)致集成的值較小,當(dāng)差分電容器具有不同程度的漏電時(shí),會(huì)出現(xiàn)凈偏移變化。

很難直接測(cè)量漏電(大于1Gohm)。用曲線跟蹤測(cè)量高壓滅菌器測(cè)試前后引腳之間的I-V,不顯示引腳之間有明顯的電阻變化。于是采用間接漏電測(cè)量方法。這種方法主要測(cè)量調(diào)制器的掃頻。調(diào)制器時(shí)鐘頻率為8-1MHz不等,在每個(gè)時(shí)鐘頻率點(diǎn)取偏移值。圖6顯示了掃頻測(cè)量的結(jié)果。測(cè)量發(fā)現(xiàn),失效器件(器件1718和器件1079)的偏移隨著調(diào)制器時(shí)鐘頻率而不同,但正常器件(器件533和1121)則保持大致相同的偏移。這種現(xiàn)象的原因是固定直流電漏電,較長(zhǎng)集成時(shí)間(較低時(shí)鐘頻率)會(huì)導(dǎo)致集成的電荷值較小。

掃頻結(jié)果似乎說明偏移失效與漏電有關(guān),因?yàn)橐傻碾姾闪侩S著集成時(shí)間而變化。問題是,漏電發(fā)生位置在哪里?為了找出漏電位置,執(zhí)行了FA操作,通過激光蝕刻和化學(xué)蝕刻,選擇性地去除某些區(qū)域的EMC材料。將EMC材料從傳感單元鍵合“存放”區(qū)域去除(圖7)發(fā)現(xiàn),漏電行為(偏移與調(diào)制器時(shí)鐘頻率有關(guān))消失。這證明焊盤存放區(qū)域內(nèi)存在漏電通道。由此斷定,高壓滅菌器大氣的水凝結(jié)聚集了離子,從而促進(jìn)了漏電。多晶硅轉(zhuǎn)子或傳感單元導(dǎo)電帽之間可能有漏電。


圖7 查出泄露位置的剝層分析

為了消除直流電漏電,因此從設(shè)計(jì)上建議在多晶硅轉(zhuǎn)子上覆蓋氮化硅鈍化層,作為修復(fù)方法。 鈍化層設(shè)計(jì)的生產(chǎn)和高壓滅菌測(cè)試作為下一步實(shí)施。

IV. 寄生電容

盡管前面的 FA 操作已經(jīng)顯示失效部件和漏電行為之間具有某種聯(lián)系,但不能認(rèn)為漏電是高壓滅菌失效的唯一(或首要)根源。實(shí)際上是不能排除因高壓滅菌壓力而引起寄生電容變化。根據(jù)下列公式(圖5),寄生電容(從鍵合線到鍵合線)估計(jì)大約為50fF。

其中 l是鍵合線的長(zhǎng)度,r 是鍵合線的半徑,d是兩條鍵合線之間的距離,εr是EMC的介電常數(shù)(干燥時(shí)和高壓滅菌測(cè)試之后)。

象體積電阻率一樣,EMC材料的介電常數(shù)也可以通過攝取水分來(lái)改變(圖4)。干燥條件和吸水條件下的介電常數(shù)變化可能高達(dá)兩個(gè)數(shù)量級(jí)。在低頻率范圍(小于1Hz),這種影響更明顯。在較高頻率范圍,差別通常小很多。測(cè)試 MEMS 加速計(jì)的 QEN封裝所用的特定EMC材料與 MEMS器件采用相同的高壓滅菌器測(cè)試條件。表1顯示了EMC材料的介電常數(shù)在高壓滅菌器壓力前后可能增加2.8%。

表1 EMC的介電性能: 96小時(shí)的高壓滅菌器測(cè)試之后

 

項(xiàng)目 體積電阻率(ohm-cm) 介電常數(shù) 耗散因子(%)
RT 150C
T=0 5.00E+16 1.00E+10 3.6 0.5
PCT96h 1.00E+16 2.00E+10 3.7 0.7

EMC 介電常數(shù)出現(xiàn)2.8%的變化可能產(chǎn)生1.4fF的電容變化。如此小的電容變化要使用 LCR 儀表測(cè)量出來(lái)是不可能的,但它足以在9位輸出上產(chǎn)生15個(gè)計(jì)數(shù)的偏移變化。高壓滅菌器壓力產(chǎn)生的寄生電容變化很難控制,因?yàn)樗荅MC材料特征的一部分。但有幾種設(shè)計(jì)對(duì)策可以緩解此問題。一種方法是提高傳感器靈敏度,從而只需要較低的調(diào)制器增益。我們的觀察也支持這種方法,發(fā)現(xiàn)用不同的MEMS加速計(jì)設(shè)計(jì)(具有2倍靈敏度)在高壓滅菌器測(cè)試中有更好的表現(xiàn)。另一種方法是采用不同前端/架構(gòu)設(shè)計(jì),將屏蔽節(jié)點(diǎn)從中間節(jié)點(diǎn)分離出來(lái),這樣敏感節(jié)點(diǎn)和屏蔽節(jié)點(diǎn)之間的寄生電容不會(huì)產(chǎn)生偏移。

V. 結(jié)論

本文共討論了MEMS加速計(jì)的三種高壓滅菌器失效機(jī)理。分別說明了每一種失效機(jī)理的FA方法(通過建模和測(cè)量)和設(shè)計(jì)改進(jìn)。排除了封裝應(yīng)力作為高壓滅菌器失效的根源。傳感單元內(nèi)的漏電通過調(diào)制器掃頻測(cè)量得到了確認(rèn)。依據(jù)EMC材料的介電性能測(cè)量研究了寄生電容。我們認(rèn)為漏電和寄生電容變化都存在于高壓滅菌失效器件中。最后還為所確定的每個(gè)根源建議了設(shè)計(jì)對(duì)策。當(dāng)測(cè)試結(jié)果一出來(lái),就會(huì)按照?qǐng)?bào)告的測(cè)試結(jié)果進(jìn)行這些改進(jìn)。

感謝

筆者誠(chéng)摯感謝飛思卡爾傳感器和制動(dòng)器解決方案事業(yè)部Grusonia 和Hera項(xiàng)目團(tuán)隊(duì)ARAL實(shí)驗(yàn)室的Joseph Hon、Keith Kraver和Ryan Hooper提供的援助和支持。

參考資料

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  • Stellrecht, Han and Pecht, “Characterization of Hygroscopic Swelling Behavior of Mold Compounds and Plastic Packages”, IEEE Transactions on Components and Packaging Technologies, Vol. 27, 2004.
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  • Ulaby, “Fundamentals of Applied Electromagnetics”, 5th Edition, 2006
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