10月20日消息，這是臺(tái)積電內(nèi)部“銀色高速公路”首度公開。

近日，臺(tái)積電發(fā)布一段罕見視頻，展示其位于美國(guó)亞利桑那州的Fab 21工廠內(nèi)部運(yùn)作，讓外界得以深入了解該工廠采用的N4/N5先進(jìn)制程技術(shù)生產(chǎn)過程。

視頻中，數(shù)百臺(tái)高科技設(shè)備有序地制造芯片，特別是ASML的極紫外光（EUV）光刻機(jī)，這些設(shè)備負(fù)責(zé)生產(chǎn)如NVIDIA的Blackwell B300等先進(jìn)AI芯片。

影片開場(chǎng)呈現(xiàn)了被稱為 “銀色高速公路” 的臺(tái)積電自動(dòng)化物料處理系統(tǒng)（AMHS），該系統(tǒng)由懸空軌道構(gòu)成，專門運(yùn)輸裝載 300mm（12吋）晶圓的前開式晶圓傳送盒（FOUP）。

這些晶圓傳送盒在工廠內(nèi)的有序運(yùn)行，直觀展現(xiàn)了高產(chǎn)量制造環(huán)境下維持生產(chǎn)周期時(shí)間的關(guān)鍵物流保障機(jī)制。

此外，影片重點(diǎn)介紹了ASML的極紫外光（EUV）光刻機(jī)（Twinscan NXE：3600D），該設(shè)備通過 CO2激光激發(fā)錫靶產(chǎn)生等離子體，生成13.5nm 波長(zhǎng)的光，從而在晶圓上 “印刷” 精細(xì)電路圖案。

這種EUV技術(shù)具備單次曝光實(shí)現(xiàn)約13nm的半間距分辨率的能力，充分彰顯了當(dāng)前半導(dǎo)體制造技術(shù)的先進(jìn)性。

目前，臺(tái)積電Fab 21工廠第一階段已投入運(yùn)營(yíng)，主要為蘋果、AMD和NVIDIA等美國(guó)知名企業(yè)制造芯片。

臺(tái)積電還計(jì)劃推進(jìn) Fab 21工廠的第二階段建設(shè)，建成后將具備生產(chǎn)N3和N2系列芯片的能力。

臺(tái)積電CEO魏哲家近期透露，這一升級(jí)計(jì)劃將加速實(shí)施，以響應(yīng)市場(chǎng)上客戶對(duì)AI相關(guān)芯片的強(qiáng)勁需求增長(zhǎng)。