3月4日消息，據(jù)路透社援引兩名知情人士的話報(bào)道稱，美國兩大芯片巨頭英偉達(dá)（NVIDIA）和博通（Broadcom）正在基于英特爾最新的Intel 18A制程進(jìn)行制造測試，這顯示出對這家陷入困境的公司先進(jìn)生產(chǎn)技術(shù)的初步信心。

報(bào)道還指出，另一家處理器大廠AMD也在評估Intel 18A 制造工藝是否符合其需求，但目前尚不清楚該公司是否已將測試芯片送往工廠。

英偉達(dá)、博通和AMD均為全球前五大芯片設(shè)計(jì)公司，如果他們后續(xù)真的考慮采用Intel 18A制程來生產(chǎn)自己的芯片，那么他們的需求足以讓英特爾晶圓代工業(yè)務(wù)迎來真正的轉(zhuǎn)機(jī)。

對此傳聞，英特爾發(fā)言人表示：“我們不對具體客戶置評，但在整個(gè)生態(tài)系統(tǒng)中，Intel 18A 持續(xù)受到強(qiáng)烈關(guān)注并被廣泛參與?！?/p>

去年下半年，韓國媒體曾爆料稱英特爾Intel 18A制程良率僅10%，并表示博通可能已經(jīng)取消了與英特爾的合作，該消息當(dāng)時(shí)就引發(fā)了業(yè)內(nèi)的極大關(guān)注。不過，隨后知名分析師Patrick Moorhead和英特爾前CEO帕特·基辛格都在X平臺上進(jìn)行了辟謠。

基辛格還表示，對于現(xiàn)在的芯片來說，用百分比來表示良率是不恰當(dāng)?shù)?。因?yàn)橛泻芏嗟牟煌愋偷男酒?，一些大的?jì)算芯片可能良率較低，但一些小芯片良率會比較高。所以，如果不先以定義芯片尺寸為前提，任何使用良率百分比來作為衡量特定制程工藝的水平，都是不了解半導(dǎo)體良率的。

今年2月下旬，英特爾通過官網(wǎng)正式上線了對于其最尖端的Intel 18A制程工藝的介紹，并稱其已經(jīng)“準(zhǔn)備就緒”。根據(jù)外界預(yù)計(jì)，Intel 18A將于2025 年年中進(jìn)入量產(chǎn)，將由酷睿 Ultra 300 系列“Panther Lake”處理器首發(fā)，預(yù)計(jì)將于今年下半年上市。

根據(jù)英特爾官網(wǎng)的介紹資料顯示，Intel 18A采用了RibbonFET 環(huán)柵 (GAA) 晶體管技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)電流的精確控制，同時(shí)還率先采用了業(yè)界首創(chuàng)的 PowerVia 背面供電技術(shù)，可將密度和單元利用率提高 5% 至 10%，并降低電阻供電下降，從而使 ISO 功率性能提高高達(dá) 4%，并且與正面功率設(shè)計(jì)相比，固有電阻 (IR) 下降大大降低。

與Intel 3 工藝節(jié)點(diǎn)相比，Intel 18A的每瓦性能提高 15%，芯片密度提高 30% 。英特爾稱之為北美制造的最早可用的2nm以下先進(jìn)節(jié)點(diǎn)，可以為客戶提供有彈性的供應(yīng)替代方案。

根據(jù)研究機(jī)構(gòu)TechInsights的測算，得出的 Intel 18A 的性能值為2.53，臺積電N2的性能值為2.27，三星SF2的性能值為2.19。也就是說，Intel 18A 在 2nm 級工藝中具有最高性能，臺積電N2位居第二，三星SF2位居第三。