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日本光刻膠巨頭JSR:"中國很難發(fā)展自己的EUV"

2022-05-25
來源:21ic
關鍵詞: 光刻膠 EUV 半導體

5月23日消息,據(jù)報道,近日日本光刻膠巨頭JSR的首席執(zhí)行官埃里克約翰遜(Eric Johnson)在接受采訪時表示,盡管中國在努力推動芯片的自給自足,但中國半導體產(chǎn)業(yè)必要的基礎設施不足,比如很難掌握基于極紫外(EUV)光刻的復雜芯片制造技術,發(fā)展先進制程的芯片制造技術將非常困難。

約翰遜指出,“我認為中國也非常想發(fā)展自己的EUV(極紫外光刻)能力和相關的生態(tài)系統(tǒng)(比如EUV光刻膠)。但坦率地說,我認為他們要做到這一點非常困難?!?/p>

實際上,荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)CEO溫彼得也在今年1月表達過和約翰遜類似的觀點,認為“中國不太可能復制出頂尖的EUV光刻機”。但他當時補充稱,永遠別那么絕對,中國的物理定律和全世界是一樣的,“他們肯定會嘗試”。

另外,對于中國在光刻膠領域的追趕,以及希望在高端光刻膠技術上的突破,約翰遜認為,即便中國獲得相關化學成分的確切資料,但在純度、精度及制造上都非常困難,且中國也沒有供應鏈支持。但中國當前積極投資成熟的芯片技術,也是不容忽視的一部分,“人們還沒充分意識到,中國有多少機會可以不依賴這些先進制程?!?/p>

資料顯示,JSR公司成立于1957年,中文名為日本合成橡膠,是全球主要的光刻膠供應商之一。在應用方面,光刻膠是半導體、液晶面板(LCD)、印刷電路板(PCB) 等產(chǎn)業(yè)的重要原材料。

在半導體領域,目前光刻機曝光光源一共有六種,分別是紫外全譜(300~450nm)、 G 線(436nm)、 I 線(365nm)、深紫外(DUV,包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV),相對應于各曝光波長的光刻膠也應運而生,對應分別為,G 線光刻膠、I 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。

目前,在全球半導體光刻膠領域,主要被日本合成橡膠(JSR)、東京應化(TOK)、美國杜邦、日本信越化學、富士電子、羅門哈斯等頭部廠商所壟斷,其中JSR占據(jù)了28%的市場。

而在高端半導體光刻膠市場上,JSR在ArF光刻膠領域以24%的市場份額位居全球第一。在EUV光刻膠方面,TOK和JSR有較高的份額。

從國內(nèi)的光刻膠市場來看,低端的中g線/i線光刻膠自給率約為20%,KrF光刻膠自給率不足5%,而高端的ArF光刻膠完全依賴進口,是國內(nèi)半導體的卡脖子技術之一。

至于EUV光刻膠,由于美國的阻撓,大陸目前無法進口EUV光刻機,因此國產(chǎn)EUV光刻膠的開發(fā)自然也無從談起。




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