眾所周知,在芯片制造過程中,最重要的半導體設備就是光刻機。為什么說他最重要,一方面是因為它占所有制造設備成本的22%左右,同時也占工時的20%左右。
另外一方面是全球僅有ASML一家能夠生產EUV光刻機,而EUV光刻機是進入到10nm以下工工藝的必備品,所以找ASML買到EUV光刻機,是每家芯片制造廠商必須要干的事。
目前ASML已經推出了三代EUV光刻機,分別是TWINSCAN NXE:3400B 、NXE:3400C、NXE:3600D。這三代EUV光刻機的數(shù)值孔徑為0.33,理論上能夠生產的芯片精度,最多在2nm左右。
所以一旦進入到2nm以下,也就是埃米(1埃米=0.1納米)時,那么ASML還得研發(fā)更高精度的光刻機才行。而更高精度的光刻機,稱之為High NA(高數(shù)值孔徑)EUV光刻機。
事實上,ASML也早就有準備了,ASML下一代高精度的EUV光刻機型號叫做EXE:5000,數(shù)值孔徑為0.55,可用于2nm以下的芯片制造,比如1.4nm(14埃米)、1nm(10埃米)等工藝。
在2020年底的時候,就有媒體報道,ASML其實已經基本研發(fā)完成,正在開始試產,預計到2022年就會商用。而近日imec正式表示,ASML的EXE:5000光刻機,會在2022年-2023年提供。
但晶圓廠商基于這臺光刻機,生產nm以上的芯片,至少要到2025年之后,其認為的工藝路徑進程是2025對應A14(14?=1.4納米),2027年為A10(10?=1nm)、2029年為A7(7?=0.7納米)。
此外,行業(yè)分析師Alan Priestley則表示,ASML的0.55NA光刻機(NXE:5000)的價格會高達3億美元(約合20億元),是當前0.33NA光刻機的兩倍。
想必接下來,各大晶圓代工廠們,特別是臺積電、三星、intel又要搶光刻機忙了,畢竟全球僅ASML能夠生產,誰能提前買到0.55NA光刻機,也就相當于拿到了進入埃米級工藝的門票,就能取得先機。