《電子技術(shù)應(yīng)用》
您所在的位置:首頁 > EDA與制造 > 業(yè)界動態(tài) > 一種有望應(yīng)用在5nm以下芯片的新材料

一種有望應(yīng)用在5nm以下芯片的新材料

2021-11-29
來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞: 5nm

  在2021 年 10 月發(fā)表在美國化學(xué)學(xué)會期刊《應(yīng)用納米材料》上的一篇論文中,工程師們揭示了一種特殊合成的硼烯(Borophene)的超導(dǎo)特性。據(jù)介紹,這項研究背后的團隊來自中國青島山東大學(xué)信息科學(xué)與工程學(xué)院——該機構(gòu)專門研究硼烯、二維硼烯納米材料以及該金屬的新應(yīng)用,包括作為鋰離子電池的負(fù)極材料。

  最近,他們首次成功合成了氫化硼烯(B 8 H 4),這一發(fā)展為二維硼基半導(dǎo)體開辟了可能性。

  據(jù)《科學(xué)》報道,Monolayer borophene(triangular boron monolayer)于 2015 年首次在基材上合成。盡管新興領(lǐng)域仍然存在挑戰(zhàn),但這為硼納米片( boron nanosheets)開辟了一個新時代。然而我們必須承認(rèn),第一個合成的硼納米片結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定,難以探索其新的物理性質(zhì)。2016 年發(fā)表在《物理化學(xué)化學(xué)物理》上的研究發(fā)現(xiàn),hydrogenating borophene可以使其穩(wěn)定。

  2021 年初,研究人員發(fā)現(xiàn)使用原子氫氫化 2D 硼烯(atomic hydrogen hydrogenate 2D borophene)會產(chǎn)生局部功函數(shù)( local work function)較低的氫化硼烯(hydrogenated borophene),在正??諝庵锌煞€(wěn)定數(shù)天,并且只需通過熱驅(qū)除銀基板上的碳即可回收。

  這些進步意味著科學(xué)家們現(xiàn)在可以使用穩(wěn)定的氫化硼烯來探索其特性和應(yīng)用。如果沒有穩(wěn)定的氫化硼烯,就不可能對半導(dǎo)體中的硼烯進行最新的研究。

  這些對硼烯進行凝聚態(tài)理論分析的科學(xué)家們使用“第一性原理”(“first-principles” )計算方法來確定其性質(zhì)和應(yīng)用。

  第一性原理方法根據(jù)原子組成粒子(電子和原子核)之間的基本相互作用來描述凝聚態(tài)物質(zhì)。這改變了材料建模的傳統(tǒng)方法:不是在系統(tǒng)級別描述材料,量子(盡可能小的)組件和相互作用構(gòu)成了理解的基礎(chǔ)。

  原子之間的所有相互作用,例如化學(xué)和分子鍵合,都是由這些粒子級別的基本相互作用決定的。這意味著這些相互作用的準(zhǔn)確計算機模型應(yīng)該揭示由此產(chǎn)生的所有復(fù)雜物理現(xiàn)象。

  支配這些相互作用的物理學(xué)相當(dāng)簡單且易于理解。只有兩種粒子類型——電子和原子核——它們的行為符合基本量子力學(xué)定律。然而,第一性原理建模仍然是一個非常困難的計算挑戰(zhàn)。

  這是因為計算機需要解決的問題非常龐大,就輸入它的計算數(shù)量而言。開發(fā)準(zhǔn)確有效的理論和計算技術(shù)來處理每個粒子及其在物質(zhì)中的相互作用對于凝聚態(tài)理論的研究至關(guān)重要。

  最新研究中的第一性原理分析表明,氫化硼烯適用于納米級場效應(yīng)晶體管 (FET)。FET 使用電場來控制半導(dǎo)體器件中的電流流動。它們具有三個終端:源極、柵極和漏極。

  由于 FET 具有 100 MΩ 或更高的高柵漏(gate-to-drain)電阻,因此在 control 和flow之間提供了良好的隔離。它們還比雙極結(jié)型晶體管 (BJT) 產(chǎn)生更少的噪聲,并且在零漏極電流時沒有偏移電壓。FET 通常也比 BJT 具有更高的熱穩(wěn)定性。

  FET 適用于極低功耗的開關(guān),這意味著由于散熱需求的減少,它們可以有效地小型化。

  新研究包括對應(yīng)變工程下單層 B 8 H 4的可調(diào)電子特性的詳細(xì)評估,這對二維和納米級半導(dǎo)體制造很重要。

  該團隊還展示了基于B 8 H 4的 FET 在彈道傳導(dǎo)方面的表現(xiàn)。彈道傳導(dǎo)是攜帶能量的粒子在超導(dǎo)體材料中相對長距離的穩(wěn)定流動。硼基 FET 半導(dǎo)體在該應(yīng)用中顯示出良好的電氣性能。該論文表明,基于原始B 8 H 4的 FET可以滿足國際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖 (ITRS) 對高性能納米級器件的要求。

  ITRS 每年由來自歐洲、日本、韓國、臺灣和美國的半導(dǎo)體行業(yè)人士在 1998 年至 2015 年期間制定。此后,它已被國際設(shè)備和系統(tǒng)路線圖 (IRDS) 所取代,該路線圖是在IEEE的贊助下發(fā)起的。

  路線圖為納米級電子產(chǎn)品設(shè)定了未來,展示了植入物、可穿戴設(shè)備、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備和生物醫(yī)學(xué)治療在未來幾十年將如何發(fā)展。

  基于B 8 H 4的 FET 是用于未來小型化電子產(chǎn)品的半導(dǎo)體材料的良好候選者。這些器件在僅 5 nm 的溝道長度下運行良好,在導(dǎo)通電流、延遲時間和功率延遲乘積方面表現(xiàn)良好。

  研究人員發(fā)現(xiàn),在 5% 雙軸壓縮應(yīng)變的情況下,基于B 8 H 4的 FET 可以進一步縮小到僅 3 nm 的柵極長度。

  總體而言,該論文的作者相信 B 8 H 4適用于小于 5 nm 的 FET 中的應(yīng)用,并且基于硼的半導(dǎo)體在納米技術(shù)的未來中具有廣闊的前景。

  硼烯(borophene):二維材料新成員

  以石墨烯為代表的二維(2D)材料已經(jīng)在全球范圍內(nèi)聞名遐邇。由于具有優(yōu)異的導(dǎo)電性和機械性能,2D材料被迅速用于制備更小更快的電子設(shè)備和更強大的儲能設(shè)備。目前已經(jīng)發(fā)現(xiàn)的2D材料包括石墨烯(graphene)、硅烯(silicene)、磷烯(phosphorene)、錫烯(stanene)以及過渡金屬硫化物(如MoS2)等。

  硼是2D材料俱樂部的后來者,部分原因是因為硼本質(zhì)上是一種3D元素,很難得到平面結(jié)構(gòu)。由于只有三個價電子,硼必須通過形成框架結(jié)構(gòu)來補償缺失電子,以便更好的共享電子。結(jié)果就是硼至少有16種結(jié)構(gòu)不同的3D多晶形。研究人員已經(jīng)制備出幾種平面硼簇,但純硼的平面網(wǎng)格結(jié)構(gòu)至今仍然難以制備。

  在2015年,由紐約州立大學(xué)石溪大學(xué)的Artem R. Oganov、西北大學(xué)的Mark C. Hersam以及阿貢國家實驗室的Nathan P. Guisinger帶領(lǐng)的團隊使用電子束蒸發(fā)器在超高真空度下燒蝕固體硼,在銀的表面上成功制備出了只有一個原子厚度的硼材料:硼烯(borophene)。(Synthesis of borophenes: Anisotropic, two-dimensional boron polymorphs. Science, 2015, DOI:10.1126/science.aad1080)。

  上圖中,硼烯中的硼原子呈蜂窩狀排列,由接近平面的B7簇組成,每個六邊形的頂部還有一個額外的硼原子。這種硼烯是一種類金屬的導(dǎo)體,而已知的硼多晶形在常壓下都是半導(dǎo)體。

  掃描隧道顯微鏡下的硼烯。圖片來源:Andrew Mannix

  此外,以南京航空航天大學(xué)臺國安教授為首的研究團隊當(dāng)時也在銅箔基底上成功制備出了二維硼單層材料。(Synthesis of Atomically Thin Boron Films on Copper Foils. Angew. Chem. Int. Ed., 2015, DOI: 10.1002/anie.201509285)。

  該單層為一斜方晶系的γ相硼,它是由正二十面體B12單元和啞鈴狀B2單元互聯(lián)構(gòu)成的二維單層。雖然材料本身并不是嚴(yán)格意義上的如同硼烯的單原子層,但也是一種很有前途的2D材料。

  兩種材料結(jié)構(gòu)對比示意圖,Science(上),ACIE(下)。

  “硼烯的研究才剛剛開始,”美國西北大學(xué)材料專家Mark Hersam說?!鞍雅鹣┲苽涑鰜磉@非常棒,還有很多與之有關(guān)的工作可做?!盚ersam也是上述《Science》論文的作者之一。

  “我很高興看到這樣的結(jié)果,”得克薩斯大學(xué)奧斯汀分校的納米材料專家Deji Akinwande說道?!八c其它2D材料有很大的不同,因為其它2D材料幾乎都是半導(dǎo)體?!?/p>

  硼烯的發(fā)現(xiàn)也為下一個2D材料的發(fā)現(xiàn)指出了方向。比如位于化學(xué)周期表中硼下方的鋁,理論研究表明,它也能形成具有蜂窩狀結(jié)構(gòu)的鋁烯(aluminene)。如果這種材料能夠在實驗室中創(chuàng)建,Akinwande說,它的導(dǎo)電性將超過石墨烯和硼烯。




電子技術(shù)圖片.png

本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外,轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題,請及時通過電子郵件或電話通知我們,以便迅速采取適當(dāng)措施,避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟損失。聯(lián)系電話:010-82306118;郵箱:aet@chinaaet.com。