近日，上海微電子舉行新產(chǎn)品發(fā)布會，該公司推出新一代大視場高分辨率先進封裝光刻機。據(jù)悉，上微已與多家客戶達成新一代先進封裝光刻機銷售協(xié)議，首臺將于年內(nèi)交付。

上海微電子早在2018年就申請了一項名為“一種光刻投影物鏡及光刻機”的發(fā)明專利（申請?zhí)枺?201811648523．1）。據(jù)悉，該專利申請人為上海微電子裝備 （集團） 股份有限公司。

光學光刻是一種用光將掩模圖案投影復制的技術，集成電路就是由投影曝光裝置制成的，將具有不同掩模圖案的圖形成像至基底上，制造集成電路、薄膜磁頭、液晶顯示板，或微機電等一系列結(jié)構。過去數(shù)十年曝光設備技術水平不斷發(fā)展，滿足了更小線條尺寸，更大曝光面積，更高可靠性及產(chǎn)率，以及更低成本的需求。然而現(xiàn)有的光刻投影物鏡依舊存在諸如數(shù)值孔徑較小、分辨率低、適用波段窄、數(shù)值孔徑不可變和非球面透鏡加工制造成本高等問題。

根據(jù)智慧芽數(shù)據(jù)顯示，截至最新，上海微電子及其關聯(lián)公司在126個國家／地區(qū)中，共有3541件專利申請，從專利授權量上來看，自2003年開始，上海微電子所有專利中，頭15年每年專利授權量占該年次專利授權量比例都非常高，幾乎占比能達到90％，但近幾年該公司的專利授權比例呈現(xiàn)下降趨勢（詳見圖1）。智慧芽咨詢專家表示，授權發(fā)明專利量在專利申請總量中的占比高低反映了其創(chuàng)新程度高低。此外，根據(jù)智慧芽的數(shù)據(jù)庫可知，該公司的上述專利申請技術構成如下，該公司有48．01％的專利技術都是和“圖紋面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工藝；圖紋面照相制版用的材料，如：含光致抗蝕劑的材料；圖紋面照相制版的專用設備”有關（詳見圖2）。

圖1：上海微電子專利趨勢

圖2：上海微電子專利技術構成

（備注：智慧芽全球?qū)＠麛?shù)據(jù)庫收錄數(shù)據(jù)包括126個國家／地區(qū)中已經(jīng)公開的專利，一般來說，專利從申請到公開可查詢，需要4到18個月）