隨著半導(dǎo)體制程工藝進(jìn)入7nm及以下節(jié)點(diǎn)，EUV光刻機(jī)成為最為關(guān)鍵的設(shè)備。之前臺(tái)積電、三星都依賴于ASML的EUV光刻機(jī)量產(chǎn)了5nm的芯片，不過(guò)目前EUV光刻機(jī)主要都還是應(yīng)用在邏輯芯片的制造上。而現(xiàn)在，存儲(chǔ)芯片廠商也開(kāi)始引入EUV光刻機(jī)，推動(dòng)存儲(chǔ)芯片的制程工藝。

　　近日，SK海力士與ASML公司簽訂了一個(gè)超級(jí)大單，豪擲4.8萬(wàn)億韓元（約35.7億歐元）搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。SK海力士在一份監(jiān)管文件中稱，這筆交易是為了實(shí)現(xiàn)下一代工藝芯片量產(chǎn)的目標(biāo)。

　　雖然，ASML及SK海力士都沒(méi)有透露這么多資金到底購(gòu)買(mǎi)了多少臺(tái)EUV光刻機(jī)，不過(guò)從之前一臺(tái)EUV光刻機(jī)均價(jià)1億歐元的數(shù)據(jù)來(lái)看，SK海力士這次購(gòu)買(mǎi)的EUV光刻機(jī)大約是35臺(tái)左右。要知道去年全年ASML的EUV光刻機(jī)的銷量也不過(guò)31臺(tái)。

　　據(jù)了解，作為全球第二大內(nèi)存芯片廠商的SK海力士，這次購(gòu)買(mǎi)的EUV光刻機(jī)主要是用于新一代內(nèi)存顆粒。對(duì)內(nèi)存來(lái)說(shuō)，它跟CPU邏輯工藝一樣面臨著需要微縮的問(wèn)題，EUV光刻機(jī)可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。值得一提的是，此前就有消息稱SK海力士今年下半年在利川廠區(qū)M16采用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)第四代（1a nm）DRAM產(chǎn)品。