臺(tái)積電2020年中宣布,將在美國(guó)亞利桑納州斥資120億美元興建5納米制程晶圓廠,并預(yù)計(jì)2023年正式量產(chǎn)。此外,三星日前也宣布計(jì)劃斥資100億美元在美國(guó)德州奧斯汀興建新晶圓廠,新晶圓廠打算以3納米制程切入,力壓臺(tái)積電亞利桑納州5納米廠。市場(chǎng)人士分析,三星舉動(dòng)使3納米制程的戰(zhàn)爭(zhēng)日趨激烈。對(duì)三星來勢(shì)洶洶,臺(tái)積電似乎胸有成竹,有機(jī)會(huì)能在3納米制程的競(jìng)賽中立于不敗之地。
市場(chǎng)人士指出,雖然在5納米制程方面,三星已經(jīng)趕上了臺(tái)積電的腳步,于2020年正式量產(chǎn)。但在3納米制程上,三星似乎還是落后于臺(tái)積電。因?yàn)橄嚓P(guān)報(bào)導(dǎo)指出,臺(tái)積電已經(jīng)為其3納米制程的晶圓廠方面投資了200億美元。所以,為了縮短差距,三星正加緊3納米制程的研發(fā)。
不過,由于3納米制程技術(shù)難度極大,如果三星美國(guó)工廠計(jì)劃生產(chǎn)3納米制程芯片,依照正常進(jìn)度,目前還處于初步計(jì)劃階段的德州奧斯汀的晶圓工廠,在2023年前還難以正式量產(chǎn)。相較于臺(tái)積電的3納米制程將于2021年進(jìn)行試產(chǎn),2022年量產(chǎn),這對(duì)于力求趕超臺(tái)積電的三星來說,壓力依然不小。所以,預(yù)計(jì)三星要量產(chǎn)3納米制程,則仍將會(huì)以韓國(guó)境內(nèi)的旗下晶圓廠為優(yōu)先。
以晶圓廠建置方面來說,臺(tái)積電董事長(zhǎng)劉德音曾經(jīng)表示,3納米制程技術(shù),于南科廠的累計(jì)投資將超過新臺(tái)幣2萬億元,目標(biāo)是3納米制程在2022年量產(chǎn)時(shí),單月產(chǎn)能5.5萬片起,2023年,則是達(dá)到10.5萬片。
目前臺(tái)積電在南科有3座晶圓廠,分別是晶圓14廠、晶圓18廠和晶圓6廠。其中,前兩座是12英寸晶圓廠,后一座是8英寸晶圓廠。晶圓18廠是5納米制程的主要生產(chǎn)基地。而除了5納米制程之外,臺(tái)積電3納米制程的晶圓廠,也建在南科內(nèi)。2020年11月,臺(tái)積電舉行了南科晶圓18廠3納米制程廠新建工程上梁典禮。
至于,在三星方面,2020年初有外媒報(bào)導(dǎo)稱,三星已開始在其新建的V1晶圓廠中進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn),成為業(yè)界首批采用極紫外光曝光設(shè)備(EUV)的6納米和7納米制程技術(shù)生產(chǎn)線,而且該工廠還被認(rèn)為是三星接下來3納米制程生產(chǎn)的主要基地。而三星V1晶圓廠位于韓國(guó)華城、毗鄰S3工廠。三星于2018年2月開始建造V1晶圓廠,并于2019年下半年開始芯片的測(cè)試生產(chǎn)。目前,該公司還在擴(kuò)大V1晶圓廠的產(chǎn)能規(guī)模,也在緊鑼密鼓地為3納米制程的量產(chǎn)積極做準(zhǔn)備。
除了晶圓廠的建置,設(shè)備的采購(gòu)也是先進(jìn)制程競(jìng)爭(zhēng)的關(guān)鍵。而為了如期量產(chǎn)3納米制程,臺(tái)積電一直在加大投資力道,2021年全年投資預(yù)估達(dá)到了280億美元,預(yù)計(jì)超過150億美元會(huì)用于3納米制程。其中,很大一部分都要用于購(gòu)買半導(dǎo)體設(shè)備,其中主要的采購(gòu)廠商包括了ASML、KLA、應(yīng)用材料等,他們供應(yīng)的曝光機(jī)、蝕刻機(jī)等都是制造3納米制程的重要設(shè)備。
根據(jù)統(tǒng)計(jì),全球排名前5的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商在臺(tái)積電采購(gòu)中占比達(dá)75%。其中,ASML占比1/3,是第一大設(shè)備供應(yīng)商。據(jù)統(tǒng)計(jì),2019年臺(tái)積電設(shè)備采購(gòu)中,ASML曝光機(jī)等設(shè)備金額約為34億美元,占臺(tái)積電總采購(gòu)額的33%,其次是應(yīng)用材料,采購(gòu)額約為17億美元,占比16%,TEL的12億美元?jiǎng)t是占11%,Lam Research為10億美元,占臺(tái)積電采購(gòu)額的9%,KLA則是占4%。
對(duì)于3納米制程這樣尖端的制程技術(shù)來說,曝光機(jī)顯得尤為重要,而能提供EUV設(shè)備的目前只有ASML一家。因此對(duì)臺(tái)積電和三星的重要性也愈加突出,雙方都在盡可能地從ASML中多獲得一些最先進(jìn)EUV設(shè)備。
不久前ASML執(zhí)行長(zhǎng)Peter Wennink在財(cái)報(bào)會(huì)議上指出,5納米制程采用的EUV光罩層數(shù)將超過10層,3納米制程采用的EUV光罩層數(shù)會(huì)超過20層。因此,隨著制程微縮,EUV光罩層數(shù)會(huì)明顯增加,并取代深紫外光(DUV)多重曝光制程。
日前ASML公布2020全年財(cái)報(bào)。根據(jù)數(shù)據(jù)顯示,2020年累計(jì)運(yùn)交258臺(tái)曝光機(jī),其中EUV曝光機(jī)31臺(tái)。顯然的,臺(tái)積電和三星訂購(gòu)了ASML大部分EUV曝光機(jī)。
在先進(jìn)制程中,還有一項(xiàng)不得不提的重點(diǎn),那就是封測(cè)技術(shù)的發(fā)展。近來,臺(tái)積電一直在布局先進(jìn)封測(cè)廠。目前旗下有4座先進(jìn)封測(cè)廠,分別是先進(jìn)封測(cè)1廠、先進(jìn)封測(cè)2廠、先進(jìn)封測(cè)3廠和先進(jìn)封測(cè)5廠,它們位于竹科、中科、南科、龍?zhí)兜鹊兀缋踔衲蟿t是預(yù)計(jì)投資新臺(tái)幣3,000億元,開始興建第5座先進(jìn)封測(cè)廠。
市場(chǎng)人士預(yù)估,目前臺(tái)積電7納米制程芯片的封測(cè)工作已經(jīng)能夠自給自足,而5納米制程也在不斷擴(kuò)充之中,未來針對(duì)3納米制程的封測(cè)產(chǎn)線也在建設(shè)當(dāng)中。
而除了產(chǎn)能之外,在技術(shù)方面,為了滿足5納米及更先進(jìn)制程的需求,臺(tái)積電也已建立了整合扇出型(InFO)及CoWoS等封測(cè)產(chǎn)能來支援,并完成了3D IC封裝技術(shù)研發(fā)。這其中包括晶圓堆疊晶圓(WoW)及系統(tǒng)整合單芯片(SoIC)等技術(shù),預(yù)計(jì)竹南廠將以3D IC封裝及測(cè)試產(chǎn)能為主,計(jì)劃2021年進(jìn)行量產(chǎn)。
最后,在成敗關(guān)鍵的客戶方面,根據(jù)日前媒體報(bào)導(dǎo),由于芯片制程技術(shù)的領(lǐng)先,目前已經(jīng)有許多客戶正在排隊(duì)等待臺(tái)積電的產(chǎn)能供應(yīng),已知的有包括英偉達(dá)和高通正在洽談臺(tái)積電3納米制程技術(shù)的產(chǎn)能。
而為了因應(yīng)市場(chǎng)的需求,有消息指出,臺(tái)積電共為3納米制程準(zhǔn)備了4波產(chǎn)能,首波產(chǎn)能將大部分會(huì)留給多年的大客戶蘋果,之后3波則將被高通、賽靈思、英偉達(dá)、AMD等廠商預(yù)訂一空。
因此,整體來看,除了蘋果的A17處理器、以及英特爾將外包的CPU訂單之外,包括AMD、英偉達(dá),以及2020年轉(zhuǎn)向擁抱三星5納米的高通等芯片大廠都已經(jīng)預(yù)定了臺(tái)積電3納米制程在2024年之前的產(chǎn)能。
雖然之前有韓媒報(bào)導(dǎo),三星的3納米制程也將預(yù)定在2022年量產(chǎn),時(shí)間點(diǎn)就是要與臺(tái)積電一較高下。而就目前已進(jìn)入2021年,按照臺(tái)積電的計(jì)劃,今年就要進(jìn)行3納米制程的風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),并在2022年量產(chǎn)的情況下,三星預(yù)計(jì)也將勢(shì)必加快腳步。
因此,這兩大晶圓代工廠的3納米制程戰(zhàn)爭(zhēng)幾乎已進(jìn)入倒計(jì)時(shí)的階段,所以在接下來的一年多時(shí)間里,兩家頂尖廠商預(yù)計(jì)將會(huì)提出更多的消息,值得進(jìn)一步期待。