5月2日，在本周的季度收益電話會議上，臺積電CEO 兼副董事長κ哲家披?，預計其大部分7nm工藝客戶將轉型至6nm工藝節(jié)點，6nm節(jié)點使用率和產能都會迅速擴大，卻引發(fā)了很多網(wǎng)友“數(shù)字游戲”的質疑。盡管我們不能否認臺積電在半導體制程工藝上的飛速進步，但是業(yè)界不乏一些質疑的聲音。

　　根據(jù)此前的報道，臺積電于4月16日宣布推出6nm(N6)制程技術，并預計2020年第1季度進入試產。

　　臺積電表示，6nm制程技術將大幅強化目前領先業(yè)界的7nm技術，協(xié)助客戶在能耗與成本間取得高度競爭力優(yōu)勢，同時6nm工藝還沿用了7nm技術設計，從而加速了客戶相關產品的推出。

　　據(jù)了解，臺積電的6nm制程將使用極紫外光(EUV)光刻技術，因此相比第二代7nm(N7+)制程又增加了一個極紫外光刻層，相比N7技術可將晶體管密度提升18%，而且設計規(guī)則完全兼容N7，便于升級遷移，降低成本，相比之下第二代7nm工藝則是另一套設計規(guī)則。

　　如此一來，臺積電的第二代7nm工藝就比較尷尬了，雖然下一代蘋果A系列處理器和華為麒麟將會使用該節(jié)點，但按照κ哲家的說法，可能其他使用第一代7nm工藝的老客戶會選擇跳過N7+節(jié)點，直接升級到6nm工藝。

　　值得一提的是，臺積電的6nm明年才會試產，而號稱相比于第一代7nm晶體管密度提升45%，可帶來15%的性能提升或20%功耗下降的臺積電5nm工藝已經(jīng)順利進入試產階段，所以預計蘋果和華為將會跳過6nm，直接選擇更為強悍的5nm工藝。

　　臺積電的進步有目共睹。