文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.181774
中文引用格式: 莘海維,劉張李. 不同設(shè)計(jì)參數(shù)對(duì)SOI射頻開(kāi)關(guān)小信號(hào)的影響[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2019,45(2):16-19,22.
英文引用格式: Xin Haiwei,Liu Zhangli. Analysis the scatter parameter of SOI RF switch with different design structure[J]. Application of Electronic Technique,2019,45(2):16-19,22.
0 引言
在射頻前端模塊中,射頻開(kāi)關(guān)在信號(hào)切換中發(fā)揮關(guān)鍵作用。絕緣體上硅(Silicon-on-Insulator,SOI)工藝因其與傳統(tǒng)CMOS工藝兼容,具備與LNA(Low Noise Amplifier)等器件集成的潛力,近年來(lái)取得長(zhǎng)足發(fā)展[1]。因其性?xún)r(jià)比更好,在射頻開(kāi)關(guān)市場(chǎng),SOI基本取代了GaAs[2]。SOI晶圓因其引入埋氧層,富陷阱層和高電阻率襯底,極大改善了射頻開(kāi)關(guān)的性能[3]。在射頻開(kāi)關(guān)工藝領(lǐng)域,IBM、Globalfoundries、STMicro、Towerjazz取得了很好的進(jìn)展[2,4-8],主要關(guān)注開(kāi)關(guān)參數(shù)優(yōu)值的提高,擊穿電壓的提高及諧波能力的改善。國(guó)內(nèi)基于SOI也報(bào)道了SPDT、SP8T的相關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果[9-11],MEMS開(kāi)關(guān)技術(shù)及進(jìn)展[12-13]。然而,著重比較不同設(shè)計(jì)參數(shù)對(duì)射頻開(kāi)關(guān)結(jié)構(gòu)小信號(hào)的影響鮮有報(bào)道。
1 實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)
射頻開(kāi)關(guān)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)最主要的是串聯(lián)支路,晶體管的導(dǎo)通電阻主要影響射頻開(kāi)關(guān)的插入損耗;并聯(lián)支路起輔助作用,提高隔離度的作用相當(dāng)明顯。射頻開(kāi)關(guān)傳輸?shù)妮^高功率射頻信號(hào),需要在晶體管的柵極、體區(qū)增加直流偏置電阻,減小射頻信號(hào)的泄漏。一般地,源漏之間也會(huì)增加直流偏置電阻,使級(jí)聯(lián)的晶體管處于一致的偏置狀態(tài)。為研究單級(jí)寬度和級(jí)聯(lián)數(shù)目對(duì)串聯(lián)支路和并聯(lián)支路的影響,設(shè)計(jì)了相關(guān)測(cè)試結(jié)構(gòu),如表1所示。將單個(gè)串聯(lián)支路和單個(gè)并聯(lián)支路組合起來(lái),形成單刀單擲電路結(jié)構(gòu)。兩者的柵極電壓和體區(qū)電壓采用互補(bǔ)的偏置。偏置電壓條件如表2所示。單刀雙擲結(jié)構(gòu)是將兩個(gè)單刀單擲結(jié)構(gòu)組合起來(lái),加載偏置電壓狀態(tài)類(lèi)似。串聯(lián)支路、并聯(lián)支路、單刀單擲以及單刀雙擲的電路結(jié)構(gòu)如圖1所示。
工藝平臺(tái)基于0.2 μm SOI RF工藝,選用的SOI晶圓具有高阻襯底和陷阱層,減小襯底損耗,能夠改善射頻開(kāi)關(guān)的小信號(hào)性能。所采用的工藝步驟基本與體硅工藝兼容。該工藝平臺(tái)的射頻開(kāi)關(guān)品質(zhì)因子為143 fs,選用的柵極長(zhǎng)度Length為0.2 μm,實(shí)驗(yàn)選取頻率為900 MHz。本文主要基于已經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的PSP SOI RF模型仿真結(jié)果進(jìn)行分析討論。如圖2所示,模型驗(yàn)證結(jié)構(gòu)選用串聯(lián)支路,Width=2 mm, Stack=8, 各偏置電阻均為50 kΩ,ON和OFF偏置電壓如圖2所示。從圖中可以看出,導(dǎo)通狀態(tài)時(shí)的插入損耗和關(guān)斷狀態(tài)的隔離度在頻率范圍為0~5 GHz內(nèi),測(cè)試數(shù)據(jù)與模型吻合較好。
2 結(jié)果分析及討論
2.1 單級(jí)寬度對(duì)小信號(hào)的影響
圖3為不同單級(jí)寬度對(duì)串聯(lián)支路插入損耗和隔離度的影響。結(jié)構(gòu)所采用級(jí)聯(lián)數(shù)目為12級(jí)。從圖3(a)中可以看出,當(dāng)單級(jí)寬度增大時(shí),插入損耗將減小(絕對(duì)值)。單級(jí)寬度為0.5 mm時(shí),插入損耗為-1.292 dB;當(dāng)寬度增大到3 mm時(shí),插入損耗為-0.313 3 dB。插入損耗對(duì)單級(jí)寬度變化敏感。可以理解為晶體管寬度增大時(shí),該支路的等效電阻值變小,對(duì)射頻信號(hào)的阻擋作用減弱,射頻信號(hào)更易從一個(gè)射頻端口傳輸?shù)搅硪粋€(gè)射頻端口。當(dāng)然,較大的單級(jí)寬度,意味著射頻開(kāi)關(guān)占用較大面積。從圖3(b)中可以看出,當(dāng)單級(jí)寬度增大時(shí),隔離度將減小(絕對(duì)值)。單級(jí)寬度為0.5 mm時(shí),隔離度為-46.41 dB;當(dāng)寬度增大到3 mm時(shí),隔離度為-28.45 dB。隔離度對(duì)單級(jí)寬度變化敏感??梢岳斫鉃榫w管寬度增大時(shí),該支路的等效電容變大,對(duì)射頻信號(hào)的阻擋作用減弱,信號(hào)更易從一個(gè)射頻端口泄漏到另一個(gè)射頻端口。為減小信號(hào)泄漏,串聯(lián)支路需要采用較小的單級(jí)寬度。實(shí)際應(yīng)用中,插入損耗的性能需要首先考慮,串聯(lián)支路當(dāng)采用較大寬度;可以通過(guò)并聯(lián)支路的引入,達(dá)到改善隔離度的目的。
2.2 級(jí)聯(lián)數(shù)目對(duì)小信號(hào)的影響
射頻開(kāi)關(guān)傳輸功率一般較大,需要承受較高的電壓,一般會(huì)采用級(jí)聯(lián)的結(jié)構(gòu)。圖4所示為不同級(jí)聯(lián)數(shù)目對(duì)串聯(lián)支路插入損耗和隔離度的影響。結(jié)構(gòu)所采用單級(jí)寬度為2 mm。從圖4(a)中可以看出,當(dāng)級(jí)聯(lián)數(shù)目增大時(shí),插入損耗將越大(絕對(duì)值)。級(jí)聯(lián)數(shù)目為6時(shí),插入損耗為-0.208 8 dB;當(dāng)級(jí)聯(lián)數(shù)目為16時(shí),插入損耗為-0.554 dB。插入損耗對(duì)級(jí)聯(lián)數(shù)目變化敏感。當(dāng)級(jí)聯(lián)數(shù)目增加時(shí),該支路的等效電阻值變大,對(duì)射頻信號(hào)的阻擋作用變大,射頻信號(hào)更難從一個(gè)射頻端口傳輸?shù)搅硪粋€(gè)射頻端口。而關(guān)斷狀態(tài)時(shí),如圖4(b)中可以看出,當(dāng)級(jí)聯(lián)數(shù)目增加時(shí),隔離度將增大(絕對(duì)值)。級(jí)聯(lián)數(shù)目為6時(shí),隔離度為-25.82 dB;當(dāng)級(jí)聯(lián)數(shù)目為16時(shí),隔離度為-34.98 dB。隔離度對(duì)級(jí)聯(lián)數(shù)目變化敏感。當(dāng)晶體管處于關(guān)斷狀態(tài)時(shí),等效成關(guān)斷電容。當(dāng)增加級(jí)聯(lián)數(shù)目時(shí),相當(dāng)于多串聯(lián)了電容進(jìn)入信號(hào)通路,等效電容變小,對(duì)射頻信號(hào)的阻礙作用變大,隔離度將變得更好。
2.3 偏置電阻對(duì)小信號(hào)的影響
射頻開(kāi)關(guān)作為信號(hào)切換元件,需要通過(guò)偏置電壓來(lái)實(shí)現(xiàn)導(dǎo)通和關(guān)斷。因?yàn)閭鬏數(shù)氖歉哳l信號(hào),應(yīng)放置偏置電阻防止信號(hào)泄漏。圖5 所示為柵極、體區(qū)和源漏之間偏置電阻對(duì)串聯(lián)支路插入損耗和隔離度的影響。結(jié)構(gòu)所采用單級(jí)寬度為2 mm,級(jí)聯(lián)數(shù)目為12級(jí)。如圖5(a)所示,偏置電阻越大,串聯(lián)結(jié)構(gòu)的插入損耗越小(絕對(duì)值)。偏置電阻越大,對(duì)射頻信號(hào)的隔離能力越強(qiáng),能夠改善插入損耗,當(dāng)偏置電阻為50 kΩ時(shí),插入損耗的變化趨于飽和。實(shí)際設(shè)計(jì)中,該電阻一般在幾十kΩ。如圖5(b)所示,偏置電阻越大,串聯(lián)結(jié)構(gòu)的隔離度越小(絕對(duì)值)。偏置電阻越大,對(duì)射頻信號(hào)的隔離能力越強(qiáng),信號(hào)泄漏較少,隔離度變差。當(dāng)偏置電阻為50 kΩ時(shí),隔離度的變化也趨于飽和。實(shí)際應(yīng)用中還需考慮開(kāi)關(guān)速度,則偏置電阻不能過(guò)大。
2.4 偏置電壓對(duì)小信號(hào)的影響
圖6所示為偏置電壓對(duì)串聯(lián)支路插入損耗和隔離度的影響。結(jié)構(gòu)所采用單級(jí)寬度為2 mm,級(jí)聯(lián)數(shù)目為12級(jí)。如圖6(a)所示,當(dāng)柵極電壓Vg為0 V時(shí),晶體管基本沒(méi)有開(kāi)啟,插入損耗為-29.59 dB。當(dāng)Vg高于1 V時(shí),插入損耗的變化較小。開(kāi)啟狀態(tài),一般偏置電壓為+VDD,使得晶體管充分開(kāi)啟,甚至可以加載一定的過(guò)驅(qū)動(dòng)電壓。如圖6(b)所示,關(guān)斷狀態(tài)時(shí),需要在柵極和體區(qū)同時(shí)加載-VDD,使得晶體管處于完全關(guān)斷狀態(tài),體區(qū)的負(fù)偏壓能夠減小器件源區(qū)/漏區(qū)和體區(qū)之間的結(jié)電容,從而減小關(guān)態(tài)電容,有效提高隔離度。Vg和Vb同時(shí)加載負(fù)電壓對(duì)隔離度的影響比單獨(dú)加載Vg或Vb負(fù)電壓時(shí)的大。實(shí)際應(yīng)用中,可以通過(guò)偏置電路實(shí)現(xiàn)柵極電壓Vg和體區(qū)電壓Vb的同步變化。
2.5 不同結(jié)構(gòu)小信號(hào)性能
圖7所示為串聯(lián)支路(Series)、并聯(lián)支路(Shunt)、單刀單擲(SPST)、單刀雙擲(SPDT)電路結(jié)構(gòu)的插入損耗和隔離度。串聯(lián)支路(Series)單級(jí)寬度為2 mm,級(jí)聯(lián)數(shù)目為12級(jí);并聯(lián)支路(Shunt)單級(jí)寬度為0.5 mm,級(jí)聯(lián)數(shù)目為12級(jí)。結(jié)構(gòu)選取電阻為50 kΩ,電壓偏置按表2加載,VDD=2.5 V。圖7(a)為不同結(jié)構(gòu)的插入損耗。從圖中可以看出,串聯(lián)支路的插入損耗為-0.416 3 dB。單刀單擲結(jié)構(gòu)的插入損耗為-0.442 7 dB,這主要是由于并聯(lián)支路的引入。雖然并聯(lián)支路處于關(guān)斷狀態(tài),但是還是會(huì)泄漏掉部分射頻信號(hào),所以單刀單擲結(jié)構(gòu)的插入損耗會(huì)退化0.026 4 dB。同理,對(duì)于單刀雙擲結(jié)構(gòu),由于引入了更多的信號(hào)泄漏路徑,插入損耗為-0.477 8 dB,較單刀單擲結(jié)構(gòu)退化了0.035 1 dB。圖7(b)所示為不同結(jié)構(gòu)的隔離度。從圖中可以看出,串聯(lián)支路的隔離度為-32.08 dB。單刀單擲結(jié)構(gòu)的隔離度為-44.99 dB,這主要是由于并聯(lián)支路的引入。并聯(lián)支路作為輔助部分,在串聯(lián)支路關(guān)斷時(shí),并聯(lián)支路是導(dǎo)通的。從串聯(lián)支路泄漏過(guò)來(lái)的信號(hào)會(huì)經(jīng)并聯(lián)支路泄漏到地,所以單刀單擲結(jié)構(gòu)的隔離度會(huì)改善12.91 dB。同理,對(duì)于單刀雙擲結(jié)構(gòu),由于引入了更多的信號(hào)泄漏路徑,隔離度為-51.42 dB,較單刀單擲結(jié)構(gòu)改善了19.34 dB。由此可見(jiàn),并聯(lián)支路的引入,將明顯改善射頻開(kāi)關(guān)的隔離度。并聯(lián)支路的引入只是較小程度使得插入損耗退化。在實(shí)際設(shè)計(jì)中,普遍采用增加并聯(lián)支路的結(jié)構(gòu)。
3 結(jié)論
本文通過(guò)設(shè)計(jì)串聯(lián)支路、并聯(lián)支路、單刀單擲、單刀雙擲電路結(jié)構(gòu)分析了設(shè)計(jì)參數(shù)對(duì)射頻開(kāi)關(guān)小信號(hào)的影響。當(dāng)單級(jí)寬度增大時(shí),插入損耗(絕對(duì)值)將越小,隔離度(絕對(duì)值)將越?。划?dāng)級(jí)聯(lián)數(shù)目增大時(shí),插入損耗(絕對(duì)值)將越大,隔離度(絕對(duì)值)將越大;偏置電阻越大,串聯(lián)結(jié)構(gòu)的插入損耗(絕對(duì)值)越小,隔離度(絕對(duì)值)越小,在50 kΩ接近飽和;導(dǎo)通時(shí),應(yīng)在柵極加載+VDD,使得晶體管充分開(kāi)啟,關(guān)斷狀態(tài)時(shí),需要在柵極和體區(qū)同時(shí)加載-VDD,使得晶體管處于完全關(guān)斷狀態(tài);比較分析了串聯(lián)支路、并聯(lián)支路、單刀單擲、單刀雙擲電路結(jié)構(gòu)的插入損耗和隔離度,指出增加并聯(lián)支路的結(jié)構(gòu)的重要性。
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作者信息:
莘海維,劉張李
(上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司,上海201203)