據(jù)外媒可靠消息，Intel旗下的技術(shù)和制造業(yè)務(wù)將拆分為三個不同部門，顯然是10nm工藝遲遲無法大規(guī)模量產(chǎn)導(dǎo)致的。據(jù)悉，Intel技術(shù)與制造事業(yè)部(Technology and Manufacturing Group)的主管Sohail Ahmed將在下個月離職，他從2016年起負責這一職務(wù)。
Anandtech報道截圖
之后，Intel技術(shù)與制造事業(yè)部將一分為三：
一是技術(shù)研發(fā)(Technology Development)， 負責人是CTO Mike Mayberry，他原來是Intel實驗室主管，這一職位將由Rich Uhlig臨時接替。
二是制造與運營(Manufacturing and Operations)， 負責人是Ann Kelleher。
三是供應(yīng)鏈(Supply Chain)， 負責人是Randhir Thakur。
據(jù)報道，這三個部們的領(lǐng)導(dǎo)將向Venkata "Murthy" Renduchintala匯報，他目前是首席工程官，也是英特爾眾多業(yè)務(wù)的總裁。
很明顯，Intel希望將龐雜的工藝業(yè)務(wù)分割成相對獨立的三個部分，分別負責研發(fā)、制造、供應(yīng)，職責更加明確。
但是在10nm工藝一再難產(chǎn)的情況下，如何拆分業(yè)務(wù)必然是十分棘手的，也不知道是不是會更進一步影響10nm的進度。
最近，英特爾又表示，10nm工藝進展良好，預(yù)計在2019年量產(chǎn)。
另外，Intel原CEO科再奇已經(jīng)離職四個月，繼任者仍然沒有敲定，而當初定下的過渡期最長六個月，也就是說Intel最遲必須在今年年底前選出新BOSS。
多重曝光工藝難度太大拖累英特爾
在過去，Intel沒有公開解釋10nm一再跳票的原因，據(jù)了解主要是Intel 10nm工藝晶體管密度超高，需要使用多重曝光技術(shù)，部分時候不得不使用四重、五重乃至是六重曝光，這就導(dǎo)致生產(chǎn)流程加長、成本加高，良品率也很難提上來。
另外，Intel 10nm仍然完全依賴傳統(tǒng)的深紫外光刻(DUV)，激光波長193nm，下一代7nm才會在部分層面上使用極紫外光刻(EUV)，激光波長縮短到13.5nm，因此工程師們不得不絞盡腦汁，挖掘現(xiàn)有技術(shù)的全部潛力。
回溯歷史，從1999年的180nm工藝開始，Intel就以每兩年一代的步伐，穩(wěn)定更新工藝，中間交叉升級微架構(gòu)，也就是大名鼎鼎的Tick-Tock策略。
正是憑借這一激進策略，Intel一路狂奔，牢牢壓制對手，同時也始終站在半導(dǎo)體工藝行業(yè)最前沿，并多次表示先進工藝是Intel的最強有力武器。
10nm工藝最初安排在2016年下半年，但是2015年初的時候，Intel推遲了10nm制造設(shè)備的安裝部署，被疑要跳票，2015年7月Intel最終承認，10nm的大規(guī)模量產(chǎn)推遲到2017年下半年，為此不得不臨時增加了Kaby Lake(七代酷睿)，并號稱工藝優(yōu)化升級為14nm+。
2016-2017年間，Intel規(guī)劃了基本完整的10nm產(chǎn)品線，包括面向低功耗桌面和移動市場的Cannon Lake、針對高端桌面和服務(wù)器的Ice Lake、配合新工藝升級架構(gòu)的的Tiger Lake。
2017年初的CES大展上，Intel首次展示了配備Cannon Lake處理器的筆記本，并保證會在當年晚些時候發(fā)布，但是Ice Lake、Tiger Lake都推遲到了2018年。
為此，Intel又不得不增加了Coffee Lake(八代酷睿)，工藝再次優(yōu)化為14nm++。
2018年初，Intel確認10nm Cannon Lake處理器已經(jīng)開始小批量供貨，但只有低端的雙核心型號。
而就在我們期盼10nm產(chǎn)品規(guī)模上市的時候，它又一次跳了票，而且看來這一次Intel依然沒有十足的把握，只能且走且看。
坊間有說法稱，Intel在考慮是否跳過10nm而直奔7nm，但是現(xiàn)在的形勢下，Intel似乎已經(jīng)騎虎難下，畢竟10nm上已經(jīng)付出了太多，提前拿出7nm也不現(xiàn)實。
不知道這個時候，AMD、GlobalFoundries是否在慶幸早早決定不做10nm而直接上7nm？尤其是銳龍二代上了12nm，至少在紙面上AMD第一次工藝超越了Intel。
另外，三星、臺積電早就有了10nm，并且已經(jīng)開始量產(chǎn)7nm，這對Intel又是巨大的壓力。
當然了，各家的工藝所用技術(shù)不同，其實并沒有直接可比性，Intel也一再強調(diào)自家的14nm在晶體管密度、性能上相當于對手10nm，但無論如何，別人的工藝不斷翻新，并不斷贏得客戶認可，這是無法回避的。