晶體管制造技術(shù)" title="制造技術(shù)">制造技術(shù)正迎來巨大的變化，柵極結(jié)構(gòu)上新材料和新工藝的整合運用使芯片速度更快，功耗更低，從而使摩爾定律得以延續(xù)。近日，應用材料公司" title="應用材料公司">應用材料公司推出了一系列已被全面驗證的生產(chǎn)工藝，幫助我們的客戶在大規(guī)模生產(chǎn)中制造高K介電常數(shù)/金屬柵極（HK/MG）結(jié)構(gòu)。?

應用材料公司資深副總裁、硅系統(tǒng)業(yè)務部總經(jīng)理Tom St. Dennis表示：“多年以來，整合新的柵極材料是我們客戶在技術(shù)延展上碰到的最艱難的障礙。我們提供已被整合驗證的HK/MG技術(shù)，使客戶能夠提高晶體管的速度，幫助他們把風險降到最小。應用材料公司歷來都能非常成功的幫助客戶將新材料整合到工藝流程中，最近的一次是在銅互聯(lián)工藝中使用低K介電常數(shù)" title="介電常數(shù)">介電常數(shù)技術(shù)。由于我們擁有相關(guān)的上下游技術(shù)，所以我們有能力優(yōu)化工藝順序并幫助客戶成功整合HK/MG技術(shù)用于生產(chǎn)最先進的晶體管。”?

制造HK/MG結(jié)構(gòu)的方法有很多種，應用材料公司有一系列可靠的系統(tǒng)支持客戶所使用的不同的制造方法。這些已被完全驗證的工藝經(jīng)過了整合測試，可以減少客戶的調(diào)試時間，達成全面優(yōu)化的HK/MG結(jié)構(gòu)。應用材料公司提供的不僅僅是高K介電常數(shù)薄膜，而是基于單個Centura^?平臺的整合的電介質(zhì)疊合層解決方案，它包括四個關(guān)鍵的工藝——高K介質(zhì)沉積、氧化、氮化和退火。在具有挑戰(zhàn)性的金屬柵極疊合層方面，應用材料公司運用多年來在金屬沉積上的領(lǐng)先技術(shù)，提供一系列基于Endura^?平臺上的整合方案，使用ALD（原子層沉積）和PVD（物理氣相沉積）技術(shù)幫助客戶實現(xiàn)各種不同的設(shè)計。應用材料公司創(chuàng)新的高溫刻蝕技術(shù)能提供HK/MG疊合層生產(chǎn)刻蝕中至關(guān)重要的側(cè)面垂直度。應用材料公司的缺陷檢測、評價和分析系統(tǒng)具有25納米的缺陷靈敏度和自動FIB（聚焦離子束），可以加快對HK/MG結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵缺陷和工藝的研究進程。?

應用材料公司在全球最先進的半導體工藝" title="半導體工藝">半導體工藝實驗室之一——Maydan技術(shù)中心對其HK/MG技術(shù)進行了特定調(diào)試。應用材料公司的工程師利用公司的系統(tǒng)和技術(shù)成功的在最小達22納米技術(shù)節(jié)點上對邏輯和存儲（電荷擷取快閃記憶體）器件的HK/MG結(jié)構(gòu)進行了演示和測試。這些結(jié)構(gòu)能夠幫助客戶在下一代工藝流程中處于領(lǐng)先地位。欲了解HK/MG解決方案的詳細情況，請訪問www.appliedmaterials.com/Highk_MetalGate.?

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應用材料公司是納米制造技術(shù)方案的全球領(lǐng)導廠商。公司廣泛的產(chǎn)品包括創(chuàng)新的設(shè)備、服務和軟件，它們被應用于半導體芯片、平板顯示器、太陽能電池、軟性電子產(chǎn)品和節(jié)能玻璃面板的制造。應用材料公司用納米制造技術(shù)來改善人們的生活。想要了解更多應用材料公司的信息，請訪問公司網(wǎng)站www.appliedmaterials.com.?