《電子技術(shù)應(yīng)用》
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諾發(fā)公司(NOVELLUS)鞏固其在光刻膠去除領(lǐng)域的市場領(lǐng)先地位

2007-08-13
作者:GAMMA Express可延伸

??? 諾發(fā)" title="諾發(fā)">諾發(fā)系統(tǒng)有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代碼:NVLS)日前宣布其在2006年美國西部半導體設(shè)備展覽會(SEMICON West)上推出的GAMMA? Express?系統(tǒng)正在成為該公司歷史上市場認可速度最快的產(chǎn)品之一。自 2007 年初以來,公司已接到針對多款GAMMA Express系統(tǒng)的續(xù)訂訂單,這些系統(tǒng)在亞洲已被領(lǐng)先的半導體制造商應(yīng)用于高級研發(fā)與生產(chǎn)過程中。GAMMA平臺采用多站式順序處理(MSSP)技術(shù),可用于領(lǐng)先存儲器、邏輯器件以及全球代工廠設(shè)備的生產(chǎn)制造,目前每個月可處理逾一百萬片晶圓。諾發(fā)公司已為客戶安裝了250多套系統(tǒng),在針對高產(chǎn)能制造的300mm" title="300mm">300mm光刻膠" title="光刻膠">光刻膠去除領(lǐng)域中占據(jù)市場領(lǐng)先地位。?

  隨著半導體行業(yè)向高級技術(shù)節(jié)點過渡,光刻膠去除已成為日益重要的工藝步驟。在高劑量離子注入光刻膠去除(HDIS)的過程中,保持較低的硅氧損失量對提高晶體管性能至關(guān)重要。GAMMA Express平臺不僅適用于前道(FEOL)和后道(BEOL)應(yīng)用,同時還為大容量、高劑量離子注入光刻膠去除提供了最高水平的技術(shù)、可靠性和生產(chǎn)力。因而,該平臺的擁有成本較低,實現(xiàn)了對制造可變性的緊密控制,正常工作時間超過95%。?

  “隨著客戶日益認識到針對高級工藝節(jié)點的高效率光刻膠去除技術(shù)的優(yōu)勢,GAMMA Express正受到廣泛的市場關(guān)注?!敝Z發(fā)公司副總裁兼表面整合技術(shù)部總經(jīng)理Kevin Jennings先生表示,“在諾發(fā)公司全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施的全面支持下,GAMMA平臺憑借其高可靠性、高生產(chǎn)力以及技術(shù)上可達32nm" title="32nm">32nm的高度可延伸性,不斷贏得客戶青睞。”?

諾發(fā)公司簡介:

??? 諾發(fā)系統(tǒng)有限公司(Novellus Systems, Inc., Nasdaq股票代碼:NVLS)是全球領(lǐng)先的半導體工藝" title="半導體工藝">半導體工藝設(shè)備供應(yīng)商。通過創(chuàng)新性新技術(shù)的開發(fā)和值得信賴的高生產(chǎn)效率的支持,該公司的產(chǎn)品能夠為客戶提供最大的價值。諾發(fā)是一家標準普爾500指數(shù)公司,總部位于加州圣何塞,分支機構(gòu)跨越全球各個國家和地區(qū)。有關(guān)諾發(fā)公司的更多信息,請訪問網(wǎng)站www.novellus.com。?

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