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X-FAB增強(qiáng)其180納米車規(guī)級(jí)高壓CMOS代工解決方案

XP018平臺(tái)新增極具競(jìng)爭力的第二代高壓基礎(chǔ)器件
2024-05-31
來源:X-FAB

  中國北京,2024年5月21日——全球公認(rèn)的卓越的模擬/混合信號(hào)晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)今日宣布,更新其XP018高壓CMOS半導(dǎo)體制造平臺(tái),增加全新40V和60V高壓基礎(chǔ)器件——這些器件具有可擴(kuò)展SOA,提高運(yùn)行穩(wěn)健性。與上一代平臺(tái)相比,此次更新的第二代高壓基礎(chǔ)器件的RDSon阻值降低高達(dá)50%,為某些關(guān)鍵應(yīng)用提供更好的選擇——特別適合應(yīng)用在需要縮小器件尺寸并降低單位成本的系統(tǒng)中。

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  XP018平臺(tái)作為一款模塊化180納米高壓EPI技術(shù)解決方案,基于低掩模數(shù)5V單柵極核心模塊,支持-40°C至175°C的寬溫度范圍,并提供一系列可選的器件和模塊——包括高增益雙極器件、標(biāo)準(zhǔn)和高電容密度MIM電容器、多閾值(Vt)選項(xiàng)、肖特基二極管和耗盡型器件。

  該平臺(tái)搭載高可靠性汽車NVM解決方案,如嵌入式閃存(Eflash)、EEPROM和OTP,專為成本敏感型和穩(wěn)健型汽車、工業(yè)及醫(yī)療應(yīng)用而設(shè)計(jì)。

  除了新推出的40V/60V器件外,該平臺(tái)還加入了5.3V齊納二極管,進(jìn)一步提升其性能。此款全新低漏電流的齊納二極管專為關(guān)鍵應(yīng)用中的柵氧提供有效保護(hù),如寬帶隙柵極驅(qū)動(dòng)器應(yīng)用等。此外,其還提供一系列最高電壓高達(dá)24V的新型隔離漏極高壓器件和中閾值電壓選項(xiàng)的1.8V MOS器件。

  X-FAB高壓產(chǎn)品線經(jīng)理Tilman Metzger表示:“我們XP018平臺(tái)的此次升級(jí),展現(xiàn)X-FAB致力于加強(qiáng)成熟技術(shù)方面的決心。XP018平臺(tái)已投產(chǎn)超過十年,并且仍然在汽車、工業(yè)和醫(yī)療等我們重點(diǎn)關(guān)注細(xì)分市場(chǎng)領(lǐng)域的新設(shè)計(jì)中得到廣泛應(yīng)用。這些極具競(jìng)爭力的高壓器件及其更新將使我們的客戶能夠打造更具創(chuàng)新性和成本效益的產(chǎn)品。采用全新XP018基礎(chǔ)器件的設(shè)計(jì)人員可以獲得Cadence、Siemens EDA、Synopsys等各主要EDA平臺(tái)全面的PDK支持,確保在各類應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)無縫集成與優(yōu)化。”

  全新中閾值標(biāo)準(zhǔn)單元庫預(yù)計(jì)將于2024年第三季度發(fā)布。




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