5月25日消息，據(jù)國外媒體報道稱，俄羅斯首臺光刻機已經(jīng)制造完成并正在進行測試。

俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長瓦西里-什帕克指出，該設備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。

在俄羅斯看來，盡管350nm的芯片技術(shù)相較之下顯得落后，但它在汽車、能源和電信等諸多行業(yè)中仍有著應用價值。

這意味著，俄羅斯在自主發(fā)展半導體技術(shù)的道路上取得了突破，有望減少對外部技術(shù)的依賴，提升國內(nèi)產(chǎn)業(yè)的自主性和競爭力。

之前俄羅斯已經(jīng)表示，計劃到2026年實現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點工藝，2027年實現(xiàn)28nm本土芯片制造，到2030年實現(xiàn)14nm國產(chǎn)芯片制造。

要知道，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機構(gòu)早已表示，旗下應用物理研究所將會跌破所有人眼鏡，在2028年開發(fā)出可以生產(chǎn)7納米芯片的光刻機，還可擊敗ASML同類產(chǎn)品。