5月25日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道稱，俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。

俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克指出，該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。

在俄羅斯看來(lái)，盡管350nm的芯片技術(shù)相較之下顯得落后，但它在汽車(chē)、能源和電信等諸多行業(yè)中仍有著應(yīng)用價(jià)值。

這意味著，俄羅斯在自主發(fā)展半導(dǎo)體技術(shù)的道路上取得了突破，有望減少對(duì)外部技術(shù)的依賴，提升國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)的自主性和競(jìng)爭(zhēng)力。

之前俄羅斯已經(jīng)表示，計(jì)劃到2026年實(shí)現(xiàn)65nm的芯片節(jié)點(diǎn)工藝，2027年實(shí)現(xiàn)28nm本土芯片制造，到2030年實(shí)現(xiàn)14nm國(guó)產(chǎn)芯片制造。

要知道，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機(jī)構(gòu)早已表示，旗下應(yīng)用物理研究所將會(huì)跌破所有人眼鏡，在2028年開(kāi)發(fā)出可以生產(chǎn)7納米芯片的光刻機(jī)，還可擊敗ASML同類(lèi)產(chǎn)品。